金刚石镀膜装置中的等离子体参数测量

利用平行马赫探针和单探针对金刚石镀膜装置中的等离子体漂移速度、离子密度及电子温度进行了测量 ,采用 Chung Kyu- Sun理论对平行马赫探针数据进行分析得到的马赫数为0 .2 8,电子温度为 5 e V,等离子体流速约为 980 m· s-1。单探针测得离子密度在 10 18～ 10 2 0 m-3的范围内 ,电子温度在 2～ 8e V的范围内。

RIBLL大面积真空镀膜装置

描述了一台大面积双叠层阳极在 X、Y方向分条读出气体电离室而发展的大面积真空镀膜装置。镀膜腔体内体积为 990 mm× 780 mm× 780 mm。可镀膜面积最大为 960 mm× 750 mm。用该装置为RIBLL电离室镀阴极、X阳极、Y阳极和窗 ,镀膜面积 4 4 0 mm× 160 mm,Mylar膜厚 3.2 6μm,镀银 97.2 7nm,镀银厚度不均匀度为 18.91%。用它制作的 RIBLL电离室的阳极、阴极 ,当电离室工作气压2 5k Pa P10气体 ,阳极电压 2 2 0 V,阴极电压 - 160 0 V时 ,对 5.15Me Vα源测量能量分辨率为 4 .2 %。

行星周转镀膜装置设计

针对现有的蒸镀圆柱形腔体杜瓦镀膜工艺存在工艺繁琐、膜层不均匀等问题,设计了行星周转镀膜装置。该转台针对镀膜机内特殊环境特点,采用摩擦行星轮组设计,优选材料,优化结构,对标准件进行特殊处理,最终实现行星周转镀膜装置的无污染、重量轻、负载小、运转稳定、方便清洁、易于调整等要求。该行星周转镀膜装置的使用,使圆柱形腔杜瓦在公转时实现自传,实现圆柱形腔杜瓦的一次蒸镀,克服原有的三次平面蒸镀带来的问题。试验结果表明:杜瓦镀金引线膜层在粘附性、均匀性等关键指标上均优于原蒸镀方式,在实现产品质量提高的同时,降低了生产成本,提高了生产效率。

基于PLC的真空镀膜装置控制系统设计

在对真空镀膜装置工作原理分析的基础上,设计了基于PLC的真空镀膜装置控制系统,并完成了控制系统关键器件的选型。该控制系统有效提升了真空镀膜装置的自动化控制能力,镀膜的精确性和效率得到了提高。

双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置

双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置由转动驱动轴、基片导轨以及基片构成，还包括：圆筒形靶材、圆筒形热屏蔽层和由多根加热丝围成的圆筒形加热器。装置制备大面积双面薄膜，在保证了大面积双面薄膜的均匀性和两面一致性的同时，提高了溅射镀膜的沉积速率，从而提高了大面积双面薄膜的生产效率，而且随着成膜时间的缩短，基片与薄膜间的互扩散问题也得到缓解。

镀膜装置及镀膜方法

镀膜装置及镀膜方法，镀膜装置包含转盘、遮板及镀材源；转盘是能规律旋转；遮板是依照镀膜层的特定厚度而设成，且设置于靠近基板的位置；镀材源是与转盘相对而设，并使遮板介于两者之间。镀膜方法包括将基板设置于能规律旋转的转盘上；将依照镀膜层的特定厚度所设成的遮板设置于靠近基板的位置以及利用镀材源将镀膜层镀于基板上。具有于一基板上形成两种以上特定厚度的镀膜层的功效。

专利名称：选择性镀膜装置

一种选择性镀膜装置，由一真空腔室，一旋转支撑组件，复数个承盘，复数个基材整合体与蒸镀源所共同组成；旋转支撑组件包含马达和支撑架；基材整合体则包含具有孔洞及磁性的金属薄膜，

专利名称：镀膜装置中的遮板

一种镀膜装置中的遮板，是用以在一基板上形成两种以上特定厚度的镀膜层，其中遮板的形状是由多数条同心圆弧线所构成，同心圆弧线的弧度是依据镀膜层的特定厚度设成。具有遮板能够精密控制镀膜层每一点的膜厚的功效。

真空与低温应用集锦——90年代最新的真空溅射镀膜装置

1990年初,欧洲的巴尔采司(Baizers)公司推出的 CLC9300型真空溅射镀装置已被人们誉为90年代的最新产品。巴尔采司公司是当今世界上最大的真空系统和真空元件制造厂家之一。该公司成立于1946年,职工总人数现已超过4000人.总公司位于列支敦士登公国。主要的生产厂布于列支敦士登、瑞士、德国和美国。更多的分公司、维修和销售点遍布于世界各地。

科研装备研制项目--“高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置”通过中科院验收

2016年6月30日，中国科学院宁波材料技术与工程研究所承担的中国科学院科研装备研制项目——“高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置”顺利通过了中国科学院条件保障与财务局组织的验收。验收专家组由来自苏州纳米所、物理研究所、合肥强磁场科学中心、中国计量大学、苏州大学、金属研究所、兰州化物所、上海硅酸盐所等有关单位的专家组成。中国科学院条件保障与财务局副局长曹凝、科技条件处副处长姜言彬出席了验收会。

包头稀土研究院多功能真空镀膜设备投入使用

近日,包头稀土研究院多功能真空镀膜设备通过验收,正式投入使用。该多功能真空镀膜设备是包头稀土研究院功能材料研究所表面工程实验室设计定制的多功能镀膜装置。设备采用了八面体立式结构,设计有八个功能模块安装位置,配有中频溅射孪生平面阴极模块、偏压溅射阴极模块、条状阳极层气体离子源模块、多弧离子阴极模块和加热模块,既可以使用纯金属、合金、陶瓷靶镀制各种功能膜、硬质防护膜和光学膜,也可以制备用于机理研究的纳米级多元素薄膜.

其它镀覆

真空离子镀膜机;配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置;隧道式超真空镀膜机;

真空泵的市场展望

介绍了真空泵市场的现状、存在的问题及未来发展的趋势。