Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究

本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程。通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符。

电子探针真空镀膜仪镀碳效果研究

电子探针是一个被广泛使用的现代分析技术,它主要的功能是矿物主量元素的精确测定。它通过电子枪发射电子束轰击样品表面,激发矿物组成元素的特征X射线。

第十九讲 真空溅射镀膜

（接2017年第1期第80页）在很多情况下,只要简单地改变溅射时反应气体与惰性气体的比例,就可改变薄膜的性质。例如,可使薄膜由金属改变为半导体或非金属。目前,工业上常用的采用反应溅射方法制备的薄膜有：建筑玻璃上使用的ZnO,SnO2,TiO2,SiO2等;电子工业使用的有ITO透明导电膜,SiO2,

第十九讲 真空溅射镀膜

（接2015年第6期第80页）（1）磁控溅射的放电特性磁控溅射放电均为低压等离子体放电,各种阴极靶的放电电流—电压特性基本一致。随着放电电流的增加,放电电压均需要增高;随着工作气压的增高,放电电压下降;磁场对放电特性有影响。

新书推荐

由王福贞、武俊伟等专家合著的《现代离子镀膜技术》一书出版发行了!内容全面在介绍真空物理和等离子体物理基础知识的基础上介绍了等离子体增强物理气相沉积、等离子体增强化学气相沉积和等离子体聚合中的几十种离子镀膜技术的初创原理和发展历程中的设计理念,以及离子镀膜技术在国民经济各领域的应用。全新技术本书适应离子镀膜技术的新发展,涵盖了许多用等离子体能量增强镀膜过程的新技术。书中不仅介绍了真空中放电技术,还介绍了大气压下放电.

溅射膜的光学厚度控制器

本文叙述了如何改装商用溅射装置、以便对溅射膜的光学厚度进行实时监控。改装后的装置在靶面中心安置了一个小真空窗、使氦氖激光束能从中通过。利用所镀溅射层对光束反射率的影响、便可进行厚度的实时测量。