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硫脲对镍电沉积的作用 被引量：13
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作者 胡光辉 吴辉煌 +1 位作者 杨防祖 王森林 《电化学》 CAS CSCD 2004年第1期94-97,共4页
　应用循环伏安和阻抗＿电位法研究了硫脲(TU)对玻碳电极和镀镍玻碳电极上镍沉积过程的影响.结果表明,在玻碳电极上镍的电沉积呈现明显的电化学成核机理,而在镀镍玻碳电极上则无此特征.TU的存在虽阻碍了Ni晶核的形成,但却能加速晶粒的生长.
关键词 硫脲 电沉积镍 循环伏安 阻抗-电位法 化学镀镍 加速作用 作用机理 玻碳电极 镀镍玻碳电极
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