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电解质对Mg-Al HTlc溶胶聚集动力学行为的影响 被引量:2
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作者 金志琳 侯万国 +3 位作者 戴国亮 孙德军 张春光 孙祉伟 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第20期2025-2029,F007,共6页
采用动态光散射法研究了电解质对Mg Al类水滑石 (HTlc)溶胶聚集动力学行为的影响 ,发现随惰性电解质 (NaCl ,NaNO3 )浓度的增大 ,Mg AlHTlc溶胶经历稳定、慢速聚集和快速聚集三个区域 ,而特性吸附电解质 (NaOH )在所研究的浓度范围 ( 0... 采用动态光散射法研究了电解质对Mg Al类水滑石 (HTlc)溶胶聚集动力学行为的影响 ,发现随惰性电解质 (NaCl ,NaNO3 )浓度的增大 ,Mg AlHTlc溶胶经历稳定、慢速聚集和快速聚集三个区域 ,而特性吸附电解质 (NaOH )在所研究的浓度范围 ( 0~ 4mmol/L)内未观察到快速聚集 .NaCl和NaNO3 的临界聚沉浓度分别为 12 7和 180mmol/L ,慢速聚集区稳定比与NaCl,NaNO3 和NaOH浓度间的关系式分别为 :logW =10 18-4 44logC ,logW =11 98-4 79logC ,logW =1 92 -0 74logC . 展开更多
关键词 电解质 聚集动力学 动态光散射 镁-铝类水滑石溶胶
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