NiAl化合物涂层的组织及其性能研究

介绍了一种由纯Ni和纯Al合成的特制靶材及用射频磁控溅射法沉积NiAl涂层的新工艺。试验结果表明 ,该NiAl涂层呈整齐的立方晶体结构 ,涂层厚约l0 μm ,晶粒尺寸约 10nm 。