浅析部分氧化镍铬膜生产工艺

本文通过对磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺的研究，指出在不同3-艺气体流量下，在不同溅射功率下，如何稳定控制部分氧化镍铬膜的生产。

浅析磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺

通过对磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺的研究,指出在不同工艺气体流量下,在不同溅射功率下,如何稳定控制部分氧化镍铬膜的生产。

浅析部分氧化镍铬膜生产工艺

本文通过对磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺的研究，指出在不同．Y-艺气体流量下，在不同溅射功率下，如何稳定控制部分氧化镍铬膜的生产。

不同氧气含量下镍铬系平板集热器选择性吸收薄膜的制备和性能表征

采用双极脉冲磁控溅射系统,在不同氧气含量的氩氧混合气体中制备了单层镍-铬金属-电介质复合光谱选择性吸收薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、激光共焦显微拉曼光谱仪、椭偏仪和紫外-可见-近红外分光光度计分别对薄膜的物相结构和光学特性进行了表征.结果表明:实验获得了由金属镍和镍、铬的氧化物(NiO、Cr2O3)组成的复合膜,薄膜对300 ～1 200 nm波段的太阳光有较强的吸收,而对波长大于1 200 nm的太阳光则吸收较弱,具有良好的光谱选择性,可用作高效太阳光谱选择性吸收涂层.

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术，研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺，对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数，采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀，牢固度好，膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±３％ 。

高温高压水中镍和铬表面氧化膜的原位表面增强型拉曼光谱研究

采用原位表面增强型拉曼光谱方法,研究了铬和镍在高温高压水中生成的表面氧化膜。镍氧化膜的拉曼光谱峰在540cm-1处,对应于NiO膜中形成的缺陷。电位小于-0.75V时,弱540cm-1峰源于样品表面的残余氧化物。电位大于-0.7V时,540cm-1峰较强,镍表面已生成稳定的NiO膜。铬氧化膜拉曼光谱有1个540cm-1强峰和1个610cm-1弱峰,对应于CrOOH或Cr2O3或两者的混合物。电位增大时,610cm-1峰强度减小,可能是因为氧化物从CrOOH转变成Cr2O3。本文的研究结果为Ni-Cr合金表面氧化物的判定提供了依据。

摄影技术及其装置

TB851.7 2000031975中性变密度滤光镜的制造=Fabrication of neutraldensity-variable filters[刊,中]/李宸章(西安西北光电仪器厂.陕西,西安(710043))//西北光电.—1999,(3).—2-6用脉冲多弧离子镀方法蒸镀镍铬铁合金膜,防止了蒸镀过程中的分馏现象,避免了金属与蒸发器钨相湿的合金反应现象。