Ni-CeO_(2)黑色防护镀层的光助动电位沉积及光热性能

镍镀层作为一种重要的工程材料,已经在金属涂装等领域得到了广泛的应用,而二氧化铈作为一种重要的稀土氧化物也引起了学者们极大的关注。本工作利用光助动电位沉积法制备了Ni-CeO_(2)复合黑色镀层,分别研究了光照条件、沉积电位范围和沉积温度对镀层结构、组成和性能的影响。采用循环伏安法、塔菲尔极化曲线、接触角测量仪、台阶仪、紫外-可见-近红外分光光度计、发射率测量仪、扫描电子显微镜及附属能谱对不同条件下制备的镀层进行了系列表征。结果表明,光照条件下,沉积电位范围为0~-1.5 V、沉积温度为50℃时制备的Ni-CeO_(2)复合黑色镀层具有最佳的综合性能,其腐蚀电流密度为9.642×10^(-6)A·cm^(-2),水接触角达到125.95°,各波段吸收率均在94%以上且具有0.592的发射率。当沉积电位范围为0~-3.5 V时,镀层具有最高的发射率,达0.757;光照条件除了对CeO_(2)的沉积产生影响之外,也显著提升了Ni的沉积速率。该研究为制备具有高吸收率和发射率的黑色复合镀层提供了一个思路,有望在光热转换和光学仪器中得到应用。