GaInP_2/GaAs/Ge叠层太阳电池材料的低压MOCVD外延生长

本文采用自制的 L P-MOCVD设备 ,外延生长出 Ga In P2 / Ga As/ Ge叠层太阳电池结构片 ,对电池材料进行了 X射线衍射测试分析 .另外 ,采用二次离子质谱仪测试了电池结构的剖面曲线 .用此材料做出的叠层太阳电池 ,AMO条件下光电转换效率 η=1 3 .6% ,开路电压 Voc=2 2 3 0 m V,短路电流密度 Jsc=1 2 .6m A/ cm2 .

无序和有序GaInP_2的光致发光谱

对无序和有序ＧａＩｎＰ２样品分别作了变温和变激发功率密度光致发光谱的测量．无序样品表现为与激发功率密度无关的单谱峰结构，在不同温度区有不同的激活能．有序样品则表现为双峰结构，其中高能端发光峰强度随温度升高先增强而后热猝灭．

红色AlGaInP激光器的特性及热特性分析

设计和制备了λ=680 nm的红色AlGaInP/GaInP应变量子阱激光器.制得的未镀膜20μm脊型条形红色激光器的输出功率达到100 mW,斜率效率0.56W/A,垂直和平行远场发散角分别为31°和9°.未镀膜4μm深腐蚀器件的功率可达10 mW,斜率效率为 0.4 W/A,峰值波长为681 nm,峰值半宽为0.5nm.不同腔长器件的特性显示器件的内损耗为4.27/cm,内量子效率达45％.对不同腔长的器件进行了变温测试,得到器件的特征温度为120～190 K.

GaInP气相外延中Si的掺杂行为及发光二极管材料的制备

用MOCVD方法生长GaInP及其掺杂材料，并对Si的掺杂行为进行了较详细的研究。采用低温度冲层技术可有效地控制高温（＞700℃）生长GaInP及其掺杂材料的组分，从而使得GaInP掺Si的电子浓度达8×1018cm－3。在此基础上，进行了GaInP发光二极管材料的生长，所得器件具有良好的I－V曲线。

用椭圆偏振光谱法研究Ga_xIn_1-_xP的光学性质(Ⅱ)

用椭偏光谱法对用ＭＯＣＶＤ方法在ＧａＡｓ衬底上生长的ＧａｘＩｎ１－ｘＰ掺Ｓｉ及掺Ｚｎ样品在室温下，可见光区得到的光学常数求其介电函数三级微商谱．将用于分析调制反射谱的三点比例法推广，并用来分析介电函数的三级微商谱．精确地得到样品的带隙Ｅｇ，Ｅｇ＋△０以及Ｅｇ以上成对结构跃迁的能量位置及其间隔．计算了Ｅｇ以及费米能级的相对位置．将实验值与计算值比较，分析其差异的原因。