在 NH_4F 介质中电沉积 ^(233)Pa 源

介绍了在ＮＨ４Ｆ介质中制备薄而均匀的２３３Ｐａ镀层的实验方法。对２３３Ｐａ电沉积的主要影响因素（电流密度、搅拌速度、电镀时间和溶液的ｐＨ等）进行了实验，得到了在不锈钢片上电沉积厚度为１ｍｇ／ｃｍ２的２３３Ｐａ源。同时观察了用不同阴极材料对电沉积２３３Ｐａ源厚度及电沉积效率的影响，提出了在不锈钢片上制备２３３Ｐａ源的工艺流程。