常用间隔层材料软X射线多层膜的设计

为了研究常用间隔层材料的软X射线多层膜的材料设计,利用Lawrence-Livermore国家实验室提供的软X射线多层膜设计程序进行模拟计算,得到了软X射线波段内的具有高反射率的膜系。结果表明,Mo在相当大的波段范围内具有良好的光学特性;除了在12.44nm是首选膜系外(除4.36nm外),其它波长都有较高的反射率;U作为吸收层材料,在相当大的波段范围内,与其它间隔层材料配对的多层膜也具有较高的反射率。这对多层膜膜系的材料选择有一定的指导意义。

LiH(LiD,LiT)基软x射线多层膜的设计

利用Livermore实验室提供的软x射线多层膜设计程序,首次计算了含有U和Li H(Li D、Li T)核材料的软x射线多层膜在不同中心波长处的反射率。设计结果显示,在22.7nm波长处,Li H(Li D、Li T)基多层膜给出了特征反射峰值,说明在大于20nm波段,Li H、Li D和Li T材料是理想的间隔层材料。