基于AFM的Si纳米结构的加工

介绍了通过使用原子力显微镜,在H钝化Si(100)的表面局部阳极氧化反应的表面氧化图案上刻写的纳米级Si 结构加工。这种氧化图形可被用作Si的可选择性蚀刻工艺的掩膜。带有临界特性的小到30 nm的边门Si 场效应晶体管也通过这种方法加工。