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题名Si光阳极保护层——CN薄膜
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作者
杜海红
刘志超
甄聪棉
李盼
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机构
河北师范大学物理科学与信息工程学院
河北省新型薄膜材料实验室
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出处
《河北师范大学学报(自然科学版)》
CAS
2019年第5期401-408,共8页
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基金
国家自然科学基金(11504247)
河北省高等学校自然科学重点项目(ZD2017045)
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文摘
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以沉积时间和沉积温度为变量在n-Si(100)衬底上沉积CN薄膜.XRD与傅里叶转换红外光谱测试表明,沉积物为CN,其中主要含有Si—C键、C—N键、CC键和CN键.紫外测试表明,CN薄膜带隙值约为3eV,光致发光测试也表明其具有良好的适合的带隙.从CN薄膜对Si光阳极光解水的保护性能综合来看,其中沉积时间为60min、沉积温度为400℃所得到的CN薄膜的保护性能最好,其光电流密度达到51.5mA/cm2,腐蚀电流为2.19μA,光解水性能稳定.
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关键词
CN薄膜
PECVD射频溅射
三电极测试
光阳极的保护
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Keywords
carbon nitride film
PECVD
three electrode cell
protection of photoanode
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分类号
O469
[理学—凝聚态物理]
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