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阳极真空弧沉积膜的背散射分析
被引量:
1
1
作者
王瑞光
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1995年第3期35-37,共3页
通过对阳极真空弧沉积膜的背散射分析,测出沉积膜中阳极材料W含量不大于0.04%,得出了起弧条件与W蒸发量的关系。
关键词
背散射
真空
弧
沉积
沉积
膜
阳极真空弧沉积
下载PDF
职称材料
题名
阳极真空弧沉积膜的背散射分析
被引量:
1
1
作者
王瑞光
机构
烟台大学
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1995年第3期35-37,共3页
文摘
通过对阳极真空弧沉积膜的背散射分析,测出沉积膜中阳极材料W含量不大于0.04%,得出了起弧条件与W蒸发量的关系。
关键词
背散射
真空
弧
沉积
沉积
膜
阳极真空弧沉积
分类号
TQ153 [化学工程—电化学工业]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
阳极真空弧沉积膜的背散射分析
王瑞光
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1995
1
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职称材料
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