腐蚀阴极尖端的新方法

给出一种腐蚀阴极尖端的新方法,使得对阴极常用金属材料(W,Mo,Ir,Ta等)制作的阴极尖端的腐蚀效果明显,针尖对称性和重复性都很好,成品率和质量都有所提高。

阴极尖端成形的最佳条件的确定

给出了腐蚀阴极尖端成形的最佳条件 ,使得阴极尖端的腐蚀效果明显 ,针尖对称性和重复性都很好 。

腐蚀钼阴极尖端溶液的配制

报导了一种配制腐蚀阴极尖端溶液的方法 ,用这种方法配制的溶液来腐蚀钼阴极尖端 ,得到了尖端曲率半径为 0 1～ 0 6μm ,这样的阴极尖端其发射特性能够满足我们用这种金属 (钼 )材料来制作阴极尖端的要求 .

尖端阴极热电子发射稳定性的实验研究

采用一种腐蚀阴极尖端的新方法,对阴极常用金属材料W,Mo,Ir,Ta制作的阴极尖端进行腐蚀.在1.2×10-6Pa的真空下,对金属材料W,Mo,Ir,Ta尖端阴极的热发射束流稳定性进行了实验研究,得到每小时束流稳定度△I/I<1%的结果.实验表明,采用新方法对阴极尖端进行腐蚀后得到的尖端阴极,同样可保证热发射束流的稳定性要求.

金属钼阴极发射特性的实验研究

在 1.2× 10 - 6 Pa的真空下 ,对多晶钼尖端阴极的热发射特性进行了实验研究 ,在工作温度 1.8～ 2 .2×10 3K ,亮度可达 10 4 A/cm2 ·sr .实验表明 ,用多晶钼代替单晶钼 。

ZrO/W尖端阴极热-场发射中钨(100)和(111)晶面逸出功的测定

对ＺｒＯ／Ｗ尖端阴极热场发射中钨（１００）和（１１１）晶面的逸出功进行了测定，证明在钨表面蒸涂ＺｒＯ的情况下，钨晶面的逸出功会明显降低．且不同晶面降低的程度各不相同。

FED起源

加州Palo Alto的斯坦福研究所的 Charles、Spindt博士及其同事于七十年代发明了今天的微尖端正FED的前身.这是一种薄膜发射结构,后来被叫做薄膜场致发光阴极或微尖端正阴极.Sprindt发明的新颖的微尖端制造工艺今天仍在使用.这种工艺的关键步骤是高角度蒸发一层所谓的“牺牲”层或“剥离”层,然后垂直蒸发微尖端金属.随着垂直蒸发的金属在各处的边缘不断堆积,整个表面自然填满,在内腔里形成尖端.最后把牺牲金属层腐蚀掉,上面的金属层便剥离出来.早期的FED器件存在若干问题,造成器件难以稳定、难以获得均匀和可重复的发射电流.