用于平面显示的MISM结构阴极

讨论了平面型场致热化电子发射阴极 ,对玻璃衬底 /Mo/Ta2 O5/ZnS/Au结构的平面型场致热化电子发射阴极的制备及其发射性能进行了论述 ,讨论了在不同工艺参数下器件的发射情况。实验表明 ,通过优化溅射时间参数和工艺手段制成的阴极对发射电流的大小有很大影响。通过对这些工艺参数的调整 ,得到了最高发射比 (Ia/Ig)为 4 5× 10 -4 ,向该阴极实用化迈进了一步。

“非平面阴极”槽生产过程的控制策略

根据"非平面阴极"对电解槽铝液波动的抑制原理和效果,提出对该类槽型主要技术参数和过程的控制,并针对存在的缺陷,对研发方向给出一定的参考意见。

平面磁控阴极用于PEPC等离子体放电实验研究

平面磁控阴极用于大面积等离子体放电具有大幅降低放电电压和放电气压的优点 ,是PEPC首选的放电途径。通过对不同尺寸、不同磁场强度和不同气压状态下放电实验研究表明 :在较宽的磁场强度范围内都可实现全口径的均匀等离子体放电 ,电极几何尺寸的小量变化对放电均匀性的影响不大。给出了满足 30 0 mm× 30 0 mm放电腔的放电参数。

非平面阴极预焙铝电解槽双媒介焙烧启动技术

本文针对非平面阴极电解槽焙烧启动采用传统方法存在的各种问题,在试验中通过改变焙烧介质,减小电阻,降低了冲击电压,使焙烧温度分布更均匀,减少了电解槽阴极早期破损风险,值得在生产中推广使用。

JPD-1200型矩形双平面磁控溅射阴极镀膜设备的研制

介绍了设备的结构、组成及工作过程 ,对新型矩形双平面磁控溅射阴极及有关的各阴极进行了分析、比较。

场发射显示器件阴极研究进展

介绍了场发射显示器件的基本结构和工作原理 ,分析了传统微尖型阴极发射阵列存在的问题 ,在此基础上介绍了平面型阴极的组成和工作方式以及目前MISM结构平面阴极的研究进展。

平动搅拌法平面电铸技术实验研究

为进一步提高在面积较大和重量较重的平面阴极基底上电铸时电铸层的厚度分布均匀性,提出了一种平动搅拌法电铸工艺,研制了相应的实验装置,并开展了实验研究。研究表明:基于研制的实验系统,当镍电铸层面积为140mm×140mm时,电铸镍平面件的厚度均匀率达到了92.7%。

活性靶室在超核物理实验研究中的应用

本文介绍的是在超核生成反应（如：１２Ｃ（ｋ－，π０）１２ΛＢ）中，为确定入射粒子ｋ－在靶中停止位置而建造的一种多丝正比室，该室已应用在Ｅ９０７实验中，并在ＡＧＳ（ＢＮＬ）的π，ｋ束中进行了数据获取。该室的工作方式采用阴极感应条信号读出方式。通过对活性靶室的数据分析，给出了它的感应信号的平均输出幅度、效率以及位置分辨率。最后对ｋ－停止事例，给出如何确定其在碳靶中的停止位置，以及停止率。对ｋ－测得的位置分辨为：ｘ＝０．９３ｍｍ，ｙ＝０．３６ｍｍ和ｚ≥１．００ｍｍ。在碳靶中ｋ－的停止率约为２０％。

SED——最新型的平板电视介绍

SED(Surface-ConductonElectron-EmitterDisplay),是表面传导型电子发射器件的简称。作为场致发射型显示器件(FieldEmissionDisplay,FED)技术之一,SED的发展历史可以追朔到1986年,当时,法国的R.Meyer利用半导体及薄膜生长的精细加工电子源技术,在试制的Si基板上加工了尖形的微小发射极阵列,生成场致发光。1996年10月,Canon发表使用MOS结构场致发光部件\超微间距薄膜平面阴极FED的论文,并于1997年5月,试作出3.1英寸样品,实现了薄膜平面阴极的FED,这就是SED的雏型。