一种新的制备ZnO纳米粒子的方法——阴极电沉积法

用阴极电沉积法制备高质量ZnO纳米薄膜,电沉积采用含有不同浓度的ZnCl2的非水二甲基亚砜溶液做电解液,室温下恒流沉积,得到纳米ZnO薄膜。研究了ZnCl2浓度对薄膜结构和光学性质的影响。沉积薄膜的ZnO粒径尺寸分别为9 8,10 4,14 5nm,随着ZnCl2浓度的增加而增大。薄膜的可见光致发光谱以紫外的自由激子发射为主。研究表明:以浓度为0 03mol/L的ZnCl2电解液制备的ZnO薄膜光学性质最好。

阴极电沉积法同时制备TiO_2薄膜和颗粒

采用阴极电沉积法电解钛酸四丁酯同时制备TiO2膜和颗粒,并讨论沉积条件对产物的影响。pH值是控制产物的主要参数。对比在紫外灯光照下不同产物不同时间下的光催化性能,比较其差异得出,酸性在pH值为1-2(加浓硫酸2-3mL)时的产物效果最好,光催化性能最好。并横向比较了加入硫酸体积相等的条件下,颗粒和薄膜的光催化效率。

氧化锌薄膜的阴极电沉积法制备及性能

以硝酸锌溶液为沉积液,采用阴极电沉积技术在ITO导电玻璃基片上制备ZnO薄膜.分析了Zn(NO3)2体系ZnO的电化学沉积机理及反应过程,考察了沉积电位和Zn(NO3)2浓度对沉积过程、薄膜结构及其性能的影响.结果表明:沉积电位和Zn(NO3)2浓度对薄膜形貌都有着显著的影响,沉积速率随沉积电位和Zn(NO3)2浓度的增加而增大;当沉积电位和Zn(NO3)2浓度较小时,薄膜粒径小,透光性相对较高.

阴极电沉积法制备ZnO及其特性研究

用ZnCl2的非水二甲基亚砜溶液做电解液,采用阴极电沉积法在导电玻璃上制备出了一系列的ZnO薄膜。实验发现ZnCl2的浓度对ZnO薄膜的光学性质有重要影响,ZnCl2浓度依次为0.01mol/L、0.03mol/L和0.05mol/L。当ZnCl2的浓度为0.01mol/L时薄膜的光学性能最好,此时发射谱出现紫峰和绿峰。XRD分析表明,薄膜是ZnO的多晶结构。

Ti(SO_4)_2为钛源电沉积法制备TiO_2薄膜的研究

以Ti(SO4)2为钛源采用阴极电沉积法在导电玻璃上生成TiO2薄膜。采用单因素法分析了电压、pH、时间等因素对阴极电沉积TiO2薄膜的影响,确定了电沉积液最佳配方和工艺条件,并采用XRD、SEM、TG-DTA等分析手段进行了表征。实验结果表明:阴极电沉积法制备TiO2薄膜的最佳配方及工艺条件为10mL Ti(SO4)2,3mLH2O2,2mLHNO3,8mL NH3.H2O,20mL H2O,pH为1.5,电压为3.5V,沉积时间为20min。在此条件下,在导电玻璃上能够形成一层均匀TiO2薄膜,经XRD检测该膜层晶型为锐钛矿,该膜层可应用于染料敏化太阳能电池、光催化等领域。

Cu_2O薄膜的制备及其光(电)催化降解甲基橙性能研究

采用循环伏安法,在1 mol/L的KOH溶液中控制电位-1 000 mV^-450 mV(vs SEC)之间以1 mV/s的速度扫描,在铜片基体上生成Cu2O薄膜。采用阴极电沉积法,以0.1 mol/L的CH3COONa和0.02 mol/L的(CH3COO)2Cu溶液作为电解液,控制恒电位-245 mV(vs SEC)、室温条件下电沉积2 h^3 h在石墨板上制得Cu2O薄膜。分别用两种方法制得的薄膜催化剂对甲基橙溶液进行了光催化及光电催化降解。实验表明:铜片基体上膜的降解效果稍好于石墨基体上的膜;当加偏压后,偏压越大降解率越高。在反应器中,两种不同基体制备的薄膜,其光电催化降解甲基橙的降解率均可达70%.

金属磁粉及其应用

一、引言自从1934年德国BASF公司开始生产涂布型磁带以来,颗粒介质材料——磁粉——有了很大的进展(表1),磁记录介质的应用日益广泛,产品的产量和产值也不断增加(表2)1987年,全世界磁记录介质产值约为101亿美元,比上年增加了13％。