Ni-Cr-Mo-Nb合金的阴极溅射行为

研究了双层辉光放电条件下镍基合金Inconel 6 2 5的阴极溅射行为。结果表明 :多组元镍基合金由于各组元溅射率不同 ,产生择优溅射现象。Mo ,Nb等低溅射率元素在阴极表面富集 ,Ni,Cr等高溅射率元素在阴极表面贫化 ,使阴极表面发生相变 ,形成含Mo ,Nb较高的金属间化合物析出相P相和Laves相。随着阴极溅射电压的增加 ,阴极合金元素溅射率增加 ;并且随着阴极温度升高 。

磁控阴极溅射靶三维磁场的有限元分析

采用有限元方法对磁控阴极溅射靶三维磁场进行了计算和分析．该装置是一种用于玻璃镀膜的永磁装置，主要由永磁体、铁磁材料和不锈钢板组成．为保证靶中不锈钢板表面的磁场均匀分布，进行了多种方案的计算和调整，给出了一种实用方案，使得装置性能得到明显改善．

镍基合金辉光放电阴极溅射表面形貌

用能量色散X射线谱仪和电子探针,研究两种含有第二相沉淀和喷射弥散强化镍基合金的阴极溅射表面微观形貌,发现形成的溅射锥体是由于第二相沉淀和氧化物质点的存在,使局部溅射率改变和引起静电效应的结果。

阴极溅射原子化器在合金分析中的应用

本文报道了原子吸收分析用的阴极溅射原子化器的设计构造。研究了放电参数、吸光度之间的关系。利用该原子化器直接分析铜合金中Ni,Al和镍基合金中的Ti、Al。相对标准偏差为1—2%。

网状阴极溅射法在钛合金表面渗镀Ta的耐蚀性研究

研究设计了一种网状阴极溅射靶 ,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。结构简单 ,溅射率高。将其用于双层辉光离子渗钽中 ,在钛合金TC4(Ti 6Al 4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织 ,进一步提高了钛合金的耐蚀性 。

空心阴极放电的阴极溅射分析

建立了空心阴极放电的二维自洽理论模型 ,通过阴极面上的电场、离子流和离子密度沿阴极截面的空间分布分析了放电中的阴极溅射问题 .研究发现空心阴极溅射型离子激光器中不均匀阴极溅射的现象来源于阴极面附近的电场、离子流和离子密度的不均匀分布 .从理论上模拟并解释了实验观察到的阴极表面溅射一个或多个凹坑的现象 .

N_2/Ti微空心阴极放电等离子体阴极溅射模拟

采用Monte Carlo方法模拟N2/Ti微空心阴极放电等离子体阴极溅射过程,其中,氮离子(N2+,N+)轰击阴极表面采用PIC/MC模型模拟.计算溅射钛原子的热化过程、钛原子的密度及其平均能量分布.结果表明,沿各方向溅射出的90%金属Ti原子所带的初始能量小于30 eV,其散射角主要分布在30°和60°之间;溅射Ti原子在离微空心阴极壁约0.04 mm处出现热化极大值.

辉光放电阴极溅射、脉冲与瞬变原子化/原子吸收光谱分析性能的研究

通过对一些元素的测定,研究了辉光放电阴极溅射、脉冲与瞬变原子化/原子吸收光谱技术的分析性能。主要是影响元素特征量的因素,分析校正曲线的线性范围、基体干扰及消除方法等。同石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)比较,此技术除具有灵敏度高,无记忆效应等特点外,还具有一些独特的分析性能,使GFAAS无法测定的元素有了分析的可能。

活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(中)

2实验结果和讨论 2．1阴极和沉积特性 典型空心阴极I-V，特性如图2所示，HC中有铜靶块并用氩气作为工作气体。在气流量和放电电流一定时，压强越低需放电电压越高。在给定真空室压强情况下，两个不同气流量的I-V特性很接近，在一定电流下，较高的气流量电压略低一点（注：

强短脉冲辉光放电阴极溅射逐层分析研究

利用强短脉冲供电电源和一种新型的辉光放电灯联用进行阴极表面溅射，发现它与在直流供电下有不同的结果．扫描电镜进行观察，得到样品溅射表面的扫描图。结果表明，该技术为金属或合金样品表面的逐层分析提供了一种新方法．

阴极溅射SiC涂层碳纤维结构与特性研究

主要研究了阴极溅射ＳｉＣ涂层碳纤维的结构与特性。结果表明：采用该工艺在碳纤维上得到的是非晶态的ＳｉＣ涂层。该涂层对碳纤维的强度没有影响，在不高于７００℃的温度下。

阴极溅射对35CrMo钢离子硫氮碳共渗层的影响

用氩离子对35CrMo钢离子硫氮碳共渗层进行了阴极溅射。通过金相观察，显微硬度测定，X射线衍射相结构分析，电子探针氮碳硫分布，分析了阴极溅射对离子硫氮碳共渗层的影响。结果表明，阴极溅射使共渗层中ε相和γ′相减少，白亮层呈典型粒状晶形貌，沿渗层深度氮碳的分布变化，峰值下降，次表层氮碳含量增加。离子硫氮碳共渗与阳极溅射良好的匹配，可使共渗硬化效果显著，渗层厚度增加。

太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)

透明导电氧化物薄膜，例如SnO2、ITO、ZnO，有很多应用，如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶，它含有ZnO和2％（重量比）Al2O3，无论如何靶的代价是过高的，而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn：Al靶受到关注，虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属／氧化物过渡模式。

辉光放电阴极溅射、瞬变原子化／原子吸收光谱分析性能的研究（Ⅱ）

通过一些元素的测定，进一步研究了辉光放电阴极溅射、瞬变原子化／原子吸收光谱分析技术的如下分析性能：不同Ａｒ气压力下放电电流与放电电压的关系；放电电流、放电功率分别与吸光度的关系；石墨阴极空穴溅射时间对元素分析灵敏度的影响；分析校正曲线的线性范围：基体干扰等。试验表明；增加放电功率是提高分析灵敏度的关键；采用峰面积吸光度方式将大大扩展一些元素分析校正曲线的线性范围。

磁控阴极溅射镀膜玻璃的电纹缺陷及成因

随着建筑对玻璃的装饰性和节能性要求的不断提高，镀膜玻璃在建筑中的使用量不断地增大，其中采用磁控阴极溅射工艺生产的离线镀膜玻璃得到了迅猛的发展，在生产过程中，由于工艺、设备、环境、材料等方面的原因，会使得镀膜玻璃产生各类缺陷，而对缺陷的处理给生产以及质量成本控制工作者带来了较大的挑战 本文就磁控阴极溅射镀膜在生产过程中出现的玻璃表面电纹质量缺陷进行了分析，并结合实际生产经验，针对其成因找出相应的处理方法。

浅谈磁控阴极溅射镀膜玻璃的膜层保护

采用磁控阴极溅射工艺生产的离线镀膜玻璃,由于其颜色丰富、性能优良、生产效率高等特点,已经在各个领域得到了广泛的应用。磁控阴极溅射镀膜属于软镀膜,尤其是生产的含有银材料的高性能Low—E镀膜产品,膜层软且不耐氧化,一般镀膜后保质期均在6个月左右,且在包装、转运、加工、存放等环节有着更高的要求。在镀膜基片的储运、加工过程中,操作不当则容易导致膜层的提前损坏,包括膜层划伤、氧化、耐加工能力变差等情况,最终导致质量上的损失。因此提供一种能提高产品耐加工性并降低对产品不利影响的工艺是本文探讨的重点。

影响磁控阴极溅射法镀膜玻璃质量的原因及解决办法

介绍磁控阴极溅射法镀膜玻璃的生产原理、特点和影响镀膜玻璃质量的原因和解决的办法。讨论了氩气对膜层的影响、环境对膜层的牢固度的影响、原片质量及洗涤后二次污染对膜层的影响。指出溅射效果的好坏与现场的环境有密切的关系。

真空阴极溅射镀膜产品的开发调试

随着产品要求的上档次.人们对产品的表面装饰要求也越来越高,真空镀膜产品正迎合了许多消费者的需求,我们的镀膜设备是采用带有磁控源的阴极溅射镀膜系统.其产品的最大特点是硬度高.耐磨性好,且膜层薄(一般在0.05—1.5μm范围内),所以对材料的节省是相当可观的,此外阴极溅射镀膜能获得高熔点,难熔金属的膜层,且能获得与靶材(特别是合金材料的靶材,如钛铝合金靶材,金镍靶合金靶材)材料同样组份的膜层.再者,由于它的整个工艺程序采用微机全自动控制.因而镀膜重复性很好.到目前为止.我所开发的镀膜产品,主要有500~#黑钛镀膜.300~#金镍合金膜,500~#氮化钛仿金膜,500~#氮化钛棕红膜,500~#碳铝合金膜.下面我想介绍一下阴极溅射镀膜的基本原理,产品真空镀膜所必备的基本条件,着重介绍真空镀膜的工艺程序,镀膜产品颜色的调试开发.及阴极溅射镀膜产品出现的常见质量问题及其控制方法.

高速玻璃镀膜技术──真空磁控阴极溅射方法

高速玻璃镀膜技术──真空磁控阴极溅射方法关紫星，田申黑龙江省建材局黑龙江省建材科研所１概述镀膜玻璃在经济发达国家已普遍用作玻璃幕墙，国内的北京长城饭店、上海联谊大厦、上海瑞金宾馆和上海国际贸易中心也已采用镀膜玻璃作幕墙建筑。由于镀膜玻璃具有良好的吸热...

空心阴极直流放电的二维自洽模型描述和阴极溅射分析

建立了空心阴极放电的二维自洽理论模型 ,理论研究了气压为 5 0— 12 0Pa,电压为 15 0— 30 0V的范围内Ar空心阴极放电特性、粒子密度和电离速率空间分布 ,特别考察了影响阴极溅射分布有关因素 :阴极面上的电场、离子流和离子密度的沿阴极截面的空间分布 .研究结果不仅证实了在所讨论的范围内 ,空心阴极效应明显存在而且发现归一化电离速率的空间分布形状强烈依赖于气压 .通过研究电场、离子流和离子密度的空间分布解释了空心阴极溅射型离子激光器中不均匀阴极溅射的现象来源于阴极面附近的电场。