阴阳极距离对镁合金微弧氧化膜层性能及负载模型的影响

在硅酸盐电解液体系中,采用不同的阴阳极距离制备镁合金微弧氧化膜层。通过TT260数字式涡流测厚仪、SEM、EDS和XRD分别检测膜层厚度、微观结构、元素及相组成。采用Image-J软件分析膜层表面孔隙率,利用电化学实验研究膜层耐蚀性能。基于波形图建立对应于微弧氧化系统的负载等效电路模型,并通过计算等效负载的数值和仿真,进一步分析其与膜层耐蚀性的关系。结果表明:随阴阳极距离的增加,膜层表面微孔孔数增多,孔径减小,孔隙率由26%逐渐降低到19%;膜层总体厚度随距离的增加呈减少趋势,但在距离为200 mm时略有增大;膜层耐蚀性呈先变好再变差的趋势,即在距离为10 mm时,膜层的耐蚀性最差;距离为200 mm时,膜层的耐蚀性最好,两者的腐蚀电流密度相差3个数量级。经过计算和仿真验证了负载模型的正确性,且计算的等效电阻R1与膜层耐蚀性具有对应关系,等效电阻R1值越大膜层耐蚀性越好,为现场评估膜层耐蚀性提供了依据。

基于阴阳极距离的辐照电子枪性能的研究

目前,辐照技术被广泛应用在航空航天、生物医疗、化学科学等各个领域,但大多数都是利用辐照技术提高生产加工效率,对辐照电子枪的研究探索较少。简述电子束辐照技术的原理和特点,针对辐照电子枪在实际检测调试出现放电次数过多的问题进行了解决,并优化设计辐照电子枪设备,提高辐照电子枪性能。通过对电场和电子束阴阳极距离的CST仿真研究,探索辐照电子枪中电子束性能的变化,并优化了阴阳极距离。实验结果表明,改良后的电子枪在阴阳极距离为63 mm时加速电压可以达到250 kV,并且不会产生放电现象。

碳纳米管场发射测试方法对其性能的影响

采用丝网印刷技术在金属基片上制备碳纳米管列阵薄膜,应用二极管结构对其场发射性能进行测试,并分析影响碳纳米管阴极场发射性能的因素。结果表明,随着测试次数的增加,碳纳米管阴极场发射性能会有一定程度的提高,同时场发射性能的稳定性增加;阴阳极距离15μm时,碳纳米管具有最好的场发射性能。

图形电镀边缘效应的研究

本文以理论分析为基础,依据静电场原理,对电镀边缘效应产生的过程和影响因素进行了研究。根据不同图形的分布,建立了不同图形电荷分布模型。研究发现,边缘效应的宽度与阴阳极距离有关,且符合X/d=0.5(X为阴阳极距离,d为边缘效应宽度);边缘效应的高度与电流密度有关,电流密度越大,边缘效应高度越大。

基于阴阳级距离的辐照电子枪性能的研究

由于传统的辐照技术危害大、成本高、加工效率低,发展研究电子束辐照技术是未来辐照加工的必然趋势。 大多数企业都应用电子束辐照设备来进行工业生产加工,虽然使用范围在扩大,但是对其电子枪内部的研究还有待继续深入。 为了满足实际工业需求,针对辐照电子枪在测试过程中放电次数过多,导致加工效率受阻等问题,对系统结构的影响因素进行检测调整并解决问题,优化了辐照电子枪设备中磁场系统的阴阳极尺寸和距离。 该研究对未来的电子束辐照技术的发展研究具有理论推进和实际参考意义。