难熔合金硅化物涂层界面扩散致退化与阻扩散技术研究进展

Si元素的快速内扩散与界面反应是导致高温下难熔合金表面硅化物涂层抗氧化性能退化并缩短其服役寿命的重要原因。本文综述了高温下难熔合金硅化物涂层界面Si元素的扩散原因、扩散行为、互扩散层的生长规律以及界面反应对硅化物涂层成分结构与抗氧化性能等的影响。同时还分别论述了元素改性、第二相掺杂以及界面阻扩散层等常见的阻扩散、抗退化技术的研究进展,探讨了不同材质界面阻扩散层的作用机理及其优缺点,最后对未来界面阻扩散层技术的发展与研究方向进行了展望。