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限根程度对黄瓜生长及光合特性的影响 被引量:21
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作者 葛均青 于贤昌 +1 位作者 李建勇 孙巧峰 《西北农业学报》 CAS CSCD 2004年第4期174-178,共5页
研究了根域体积限制对日光温室基质栽培黄瓜生长及光合特性的影响。结果表明,根域体积的限制使黄瓜生长量明显降低,植株的根冠比明显提高,叶片的光合功能明显下降。限根反应时间与栽培时期及限根程度有关,春茬12L、8L、4L处理黄瓜的限... 研究了根域体积限制对日光温室基质栽培黄瓜生长及光合特性的影响。结果表明,根域体积的限制使黄瓜生长量明显降低,植株的根冠比明显提高,叶片的光合功能明显下降。限根反应时间与栽培时期及限根程度有关,春茬12L、8L、4L处理黄瓜的限根反应时间分别为定植后49d、64d、79d,秋冬茬黄瓜的限根反应时间则分别提前了15d。春茬黄瓜4L处理的产量显著低于其它处理,秋冬茬黄瓜的产量处理间无显著差异;因此,可用8L的根域体积进行春茬黄瓜的早熟栽培(80d左右生育期),4L的根域体积进行秋冬茬黄瓜栽培。 展开更多
关键词 限根程度 黄瓜 生长特性 光合特性 根冠比 产量
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