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反应烧结Si_3N_4陶瓷微型转子的制备
1
作者
李敬锋
杉木真也
+1 位作者
田中秀治
江刺正喜
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期1081-1085,共5页
介绍了一种适合于制备Si3N4陶瓷微细部件的微细制备技术.该技术主要包括Si粉的预烧结成形和微型加工以及反应烧结等三部分,结合了Si粉预烧结体的可加工性和Si3N4反应烧结所具有的近净尺寸成形特点,具有制备Si3N4陶瓷三维微细部件的优势...
介绍了一种适合于制备Si3N4陶瓷微细部件的微细制备技术.该技术主要包括Si粉的预烧结成形和微型加工以及反应烧结等三部分,结合了Si粉预烧结体的可加工性和Si3N4反应烧结所具有的近净尺寸成形特点,具有制备Si3N4陶瓷三维微细部件的优势.本研究利用该技术成功地制备了直径5mm、厚度1.2mm、叶片厚度大约70μm的Si3N4陶瓷微型转子.
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关键词
陶瓷mems
微型器件
微制造
氮化硅
陶瓷
转子
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职称材料
题名
反应烧结Si_3N_4陶瓷微型转子的制备
1
作者
李敬锋
杉木真也
田中秀治
江刺正喜
机构
清华大学材料科学与工程系新型陶瓷与精细工艺国家实验室
东北大学大学院工学研究科机械电子工学专攻
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第5期1081-1085,共5页
基金
清华大学骨干人才计划
教育部留学回国人员科研启动基金
文摘
介绍了一种适合于制备Si3N4陶瓷微细部件的微细制备技术.该技术主要包括Si粉的预烧结成形和微型加工以及反应烧结等三部分,结合了Si粉预烧结体的可加工性和Si3N4反应烧结所具有的近净尺寸成形特点,具有制备Si3N4陶瓷三维微细部件的优势.本研究利用该技术成功地制备了直径5mm、厚度1.2mm、叶片厚度大约70μm的Si3N4陶瓷微型转子.
关键词
陶瓷mems
微型器件
微制造
氮化硅
陶瓷
转子
Keywords
ceramic
mems
microdevices
microfabrication
silicon nitride
ceramic turbine rotor
分类号
TQ174 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
反应烧结Si_3N_4陶瓷微型转子的制备
李敬锋
杉木真也
田中秀治
江刺正喜
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
0
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