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关于SOI/SDB薄膜全耗尽隐埋N沟MOSFET的新型解析模型
1
作者
周天舒
黄庆安
童勤义
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第2期117-122,共6页
对SOI/SDB薄膜全耗尽隐埋N沟MOSFET(FDBC NMOSFET)的器件结构及导电机理进行了深入研究,建立了明确的物理解析模型,推导出各种状态下器件工作电流的解析表达式。并将解析模型的计算结果与实验数据进行了比较和讨论。
关键词
SOI/SDB
隐埋n沟
场效应晶体管
下载PDF
职称材料
题名
关于SOI/SDB薄膜全耗尽隐埋N沟MOSFET的新型解析模型
1
作者
周天舒
黄庆安
童勤义
机构
东南大学微电子中心
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第2期117-122,共6页
文摘
对SOI/SDB薄膜全耗尽隐埋N沟MOSFET(FDBC NMOSFET)的器件结构及导电机理进行了深入研究,建立了明确的物理解析模型,推导出各种状态下器件工作电流的解析表达式。并将解析模型的计算结果与实验数据进行了比较和讨论。
关键词
SOI/SDB
隐埋n沟
场效应晶体管
Keywords
SOI/SDB,Fully Depleted Buried
n
-Cha
n
n
el MOSFET
分类号
TN386 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
关于SOI/SDB薄膜全耗尽隐埋N沟MOSFET的新型解析模型
周天舒
黄庆安
童勤义
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993
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