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MIS隧道器件电流-电压特性的数值模拟
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作者 夏永伟 G.Pananakakis G.Kamarinos 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第11期822-832,共11页
本文建立了MLS隧道器件的电流-电压特性的数值模拟程序,提出了一种新的计算方法:龙格-库塔数值积分与边界条件的预估-校正处理相结合的算法.利用建立的程序模拟计算了两种不同氧化层厚度的MIS隧道器件的电流-电压特性.对TiW/Si肖特基二... 本文建立了MLS隧道器件的电流-电压特性的数值模拟程序,提出了一种新的计算方法:龙格-库塔数值积分与边界条件的预估-校正处理相结合的算法.利用建立的程序模拟计算了两种不同氧化层厚度的MIS隧道器件的电流-电压特性.对TiW/Si肖特基二极管,考虑了界面态的静态和动态影响,模拟特性和实验结果相比,令人满意的一致. 展开更多
关键词 MIS 隧道器件 数值模拟 电流 电压
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谐振隧道二极管 被引量:2
2
作者 刘诺 谢孟贤 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第2期123-127,共5页
由于外延技术的快速发展与进步,作为量子耦合器件及其电路里程碑的谐振隧道量子器件(RTD)引起了学术界的密切关注。RTD可使电路密度增大,速度提高,且单位器件的逻辑功能高于传统的晶体管。文中分析了谐振隧道二极管的工作原... 由于外延技术的快速发展与进步,作为量子耦合器件及其电路里程碑的谐振隧道量子器件(RTD)引起了学术界的密切关注。RTD可使电路密度增大,速度提高,且单位器件的逻辑功能高于传统的晶体管。文中分析了谐振隧道二极管的工作原理、重要物理现象,并对有关设计问题进行了讨论。 展开更多
关键词 谐振隧道器件 量子耦合器件 砷化镓
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纳米半导体量子器件评述 被引量:1
3
作者 张汉三 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期26-30,共5页
在概述了半导体纳米微结构中的量子效应之后,简要评述了谐振隧道效应器件,量子线FET,单电子隧穿器件,电子波衍射晶体管,量子线和量子箱激光器。还讨论了对量子微结构的尺寸要求。
关键词 纳米半导体 量子线和量子箱激光器 量子器件 电子波衍射晶体管 超晶格 量子效应 谐振隧道器件 库仑阻塞 量子尺寸效应 谐振隧道效应
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纳米电子/光电子器件概述
4
作者 程开富 《飞通光电子技术》 2003年第1期19-22,共4页
概述纳米电子/光电子器件的类型,提出发展纳米电子/光电子器件的几点建议。
关键词 纳米电子 光电子器件 CMOS 量子效应器件 谐振隧道器件 纳米传感器
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半导体量子器件
5
作者 张汉三 《半导体情报》 1998年第5期1-7,共7页
概述了半导体量子微结构中的量子效应,并介绍了谐振隧道器件,评述了新的量子微结构,如单电子隧道器件,电子波衍射晶体管和量子线量子箱激光器的开发,还讨论了量子微结构的尺寸要求和研究课题。
关键词 量子效应 谐振隧道器件 半导体量子器件
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少子MIS隧道结发射极晶体管场感应结模型
6
作者 宋玉兴 郭雏廉 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 1995年第1期49-54,共6页
对少子MIS隧道结发射极晶体管提出一种场感应结模型。以此模型为基础,导出该器件的hFE与金属功函数及基区掺杂浓度的关系.所得结果与实验数据符合较好.
关键词 隧道器件 场感应结 晶体管 MIS隧道
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隧道结纳米器件中的光电流调制与因素分析
7
作者 沈逸 曾标峰 +1 位作者 郑臻荣 唐龙华 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第23期238-245,共8页
激光耦合隧道结器件是国际前沿研究热点,伴随产生的电磁场局域增强或光整流等效应在等离激元光镊、单分子成像、单光子光源等领域有着重要的应用价值。为了解隧道结中的光电相互作用和特性,首先利用反馈电沉积制备获得了固态隧道结纳米... 激光耦合隧道结器件是国际前沿研究热点,伴随产生的电磁场局域增强或光整流等效应在等离激元光镊、单分子成像、单光子光源等领域有着重要的应用价值。为了解隧道结中的光电相互作用和特性,首先利用反馈电沉积制备获得了固态隧道结纳米器件,然后测定了激光功率、偏置电压、偏振方向和调制频率与光电流的关系,并结合有限元法和时域有限差分方法进行理论仿真,讨论了器件中光电流的组分及相关效应。结果表明,器件局部热膨胀效应、热伏效应和热载流子效应为光电流产生的主要原因,而光整流效应因受限于激光峰值功率,其结果并不显著。这些发现可为固态隧道结器件中的光学调控以及在纳米尺度上研究激光调制电子隧穿过程提供参考。 展开更多
关键词 光学器件 隧道结纳米器件 光电流 热效应 光整流效应 等离激元效应
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Modeling and validation of magnetic tunnel junction device
8
作者 Joyanto Roychoudhary Sumitesh Majumder T K Maiti 《Journal of Measurement Science and Instrumentation》 CAS CSCD 2017年第3期261-263,共3页
We have presented here a simple model of magnetic tunnel junction(MTJ)device and the proposed MTJ model is utilizedfor validation purpose and also to study its tunnel magneto-resistance(TMR)effect by both simulation a... We have presented here a simple model of magnetic tunnel junction(MTJ)device and the proposed MTJ model is utilizedfor validation purpose and also to study its tunnel magneto-resistance(TMR)effect by both simulation and experimentalmethod using an operational amplifier(OPAMP)based inverting amplifier.Experimental results substantiates both the simulatedand theoretical outcomes. 展开更多
关键词 magneto-electronics magnetic tunnel junction (MTJ) inverting amplifier MultiSim software
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半导体器件
9
《电子科技文摘》 1999年第5期20-20,共1页
Y98-61303-789 9905776固体器件:先进的双极器件和 MOS 器件(含7篇文章)=Session 32:solid state devices-advanced bipolar andMOS devices[会,英]//1997 IEEE International Elec-tron Devices Meeting.—789~818(G)本部分7篇文章的... Y98-61303-789 9905776固体器件:先进的双极器件和 MOS 器件(含7篇文章)=Session 32:solid state devices-advanced bipolar andMOS devices[会,英]//1997 IEEE International Elec-tron Devices Meeting.—789~818(G)本部分7篇文章的主要内容是有关基于 SiGe 的器件和新的 MOS 工艺的现代技术水平。具体论述了130GHz f_T SiGe 异质结双极晶体管(HBT)工艺,采用具有9.3ps ECL 相延滞的 SMI 电极的选择外延 SiGe-HBT,无线频率 SiGe HBT 的大信号特性,碳结合对SiGe HBT 性能和工艺极限的影响。 展开更多
关键词 半导体器件 异质结双极晶体管 大信号特性 选择外延 双极器件 双极工艺 固体器件 技术水平 谐振隧道器件 主要内容
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Investigation on tunneling in optoelectronic devices with consideration of subwaves 被引量:1
10
作者 WANG XianPing YIN Cheng +2 位作者 SANG MingHuang DAI ManYuan CAO ZhuangQi 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2011年第3期388-392,共5页
Since novel optoelectronic devices based on the peculiar behaviors of the tunneling probability, e.g., resonant tunneling devices (RTD) and band-pass filter, are steadily proposed, the analytic transfer matrix (ATM) m... Since novel optoelectronic devices based on the peculiar behaviors of the tunneling probability, e.g., resonant tunneling devices (RTD) and band-pass filter, are steadily proposed, the analytic transfer matrix (ATM) method is extended to study these devices. For several examples, we explore the effect of the scattered subwaves on tunneling; it is shown that the resonant or band-pass structures in tunneling probability are determined by the phase shift results from the scattered subwaves. 展开更多
关键词 quantum tunneling WKB approximation the ATM method subwaves
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High resolution scanning gate microscopy measurements on InAs/GaSb nanowire Esaki diode devices 被引量:1
11
作者 James L. Webb Olof Perssor +3 位作者 Kimberly A. Dick Claes Thelander Rainer Timm Anders Mikkelsen 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第6期877-887,共11页
Gated transport measurements are the backbone of electrical characterization of nanoscale electronic devices. Scanning gate microscopy (SGM) is one such gating technique that adds crucial spatial information, access... Gated transport measurements are the backbone of electrical characterization of nanoscale electronic devices. Scanning gate microscopy (SGM) is one such gating technique that adds crucial spatial information, accessing the localized properties of semiconductor devices. Nanowires represent a central device concept due to the potential to combine very different materials. However, SGM on semiconductor nanowires has been limited to a resolution in the 50-100 nm range. Here, we present a study by SGM of newly developed III-V semiconductor nanowire InAs/GaSb heterojunction Esaki tunnel diode devices under ultra-high vacuum. Sub-5 nm resolution is demonstrated at room temperature via use of quartz resonator atomic force microscopy sensors, with the capability to resolve InAs nanowire facets, the InAs/GaSb tunnel diode transition and nanoscale defects on the device. We demonstrate that such measurements can rapidly give important insight into the device properties via use of a simplified physical model, without the requirement for extensive calculation of the electrostatics of the system. Interestingly, by precise spatial correlation of the device electrical transport properties and surface structure we show the position and existence of a very abrupt (〈10 nm) electrical transition across the InAs/GaSb junction despite the change in material composition occurring only over 30-50 nm. The direct and simultaneous link between nanostructure composition and electrical properties helps set important limits for the precision in structural control needed to achieve desired device performance. 展开更多
关键词 nanowire scanning gate microscopy Esaki tunnel diode InAs GaSb III-V heterostructure
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