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IH工艺的发展及应用
被引量:
5
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作者
孔祥东
张玉林
尹明
《微纳电子技术》
CAS
2003年第11期34-39,共6页
介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。
关键词
IH工艺
立体光刻
抗蚀剂
聚合物
结构
微机电系统
集成固化聚合物
下载PDF
职称材料
题名
IH工艺的发展及应用
被引量:
5
1
作者
孔祥东
张玉林
尹明
机构
山东大学控制学院电子束研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2003年第11期34-39,共6页
基金
2003年山东省科学计划项目
文摘
介绍了IH系列立体光刻技术。使用该系列技术可以加工出具有高深宽比和复杂曲面的各种微结构,可以容易地加工出微可动部件、电子聚合物组合结构和不同聚合物的全聚合物结构,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出这种方法目前存在的缺陷。
关键词
IH工艺
立体光刻
抗蚀剂
聚合物
结构
微机电系统
集成固化聚合物
Keywords
IH process
stereo lithography
resist
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
IH工艺的发展及应用
孔祥东
张玉林
尹明
《微纳电子技术》
CAS
2003
5
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职称材料
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