CMP透明膜厚测量设备发展历程

论述了反射光谱学及椭圆偏振法的原理，根据这些原理分析了离线测量设备，并列举了具有代表性的设备Nanospec6100和KLA-TENCOR的ASET-F5X，指出离线设备的特点及其局限性；分析了集成测量平台的特点，相比于离线测量，集成测量平台可获得较高的片间非均匀性．但会造成前5～7片的浪费，列举代表性集成平台NovaScan 2040，并分析其具体的技术特点：分析了在线传感器终点检测的优越性，其具有控制薄膜形貌及终点检测的功能，结合先进过程控制，可以达到极高的平整度；结合以上分析，指出今后CMP设备的发展方向。