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6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
1
作者
王鸥
丁元力
+5 位作者
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对...
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
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关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
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职称材料
题名
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
1
作者
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
机构
四川大学物理科学与技术学院微电子技术四川省重点实验室
香港大学物理系
出处
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
基金
国家自然科学基金(60076010)资助
文摘
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
Keywords
6H-SiC
LTPL
Irradiation-induced-defect
Annealing
分类号
O472.3 [理学—半导体物理]
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004
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