霍尔无栅离子源的研制及应用

基于离子束辅助镀膜技术,自主研制了一款新型霍尔无栅离子源,利用该离子源,采取离子束辅助沉积方法,在玻璃基底上镀制了多种光学薄膜,并对所镀制光学薄膜的性能进行了测试。测试结果表明:所研制的霍尔无栅离子源制备的各种光学薄膜,其膜层强度、附着性、耐腐蚀性以及光学性质都比常规热蒸发工艺所制得的薄膜有明显改善。

霍尔无栅离子源的离子束性能测试

介绍了一种新型离子源———霍尔无栅离子源 ,并论述了其工作原理 .这种源不仅具有大束流、低能量和大辐照面积等优点 ,而且克服了现有的有栅离子源的技术局限性 .实验结果证明 ,霍尔无栅离子源的离子流分布均匀性较好 ,离子束能量在 30～ 12

高质量光学薄膜制备用新型无栅霍尔离子束辅助镀膜系统

介绍一种无栅霍尔离子束辅助镀膜系统。并对该系统的特点、性能和应用结果作了叙述。