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霍耳效应实验分析
被引量:
3
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作者
顾应龙
茶国志
+1 位作者
张茜
吴宁园
《聊城师院学报(自然科学版)》
2002年第3期22-25,79,共5页
对霍耳效应测量磁感应强度的实验原理作了分析,讨论了外界定向干扰磁场对实验的影响、指出在实验教学中,相邻霍耳效应测量仪摆放距离宜大于等于2.5m才能忽略相互干扰.
关键词
霍耳效应
实验
霍耳效应测量
仪
磁场干扰
磁感应强度
实验原理
霍耳电势差
下载PDF
职称材料
用分步注入法改善SOI-SIMNI薄膜材料的电学性能
2
作者
卢殿通
黄栋
HEINER RYSSEL
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期185-188,共4页
采用常规方法和分步注入法制备SOI SIMNI(SilicononInsulator SeparationbyImplantationofNitrogen)薄膜材料 .用液氦低温霍耳效应进行了分析测量 .测量结果表明 :分步注入法制备得到的样品具有低的薄层电阻R□ 和较高的载流子迁移率 ....
采用常规方法和分步注入法制备SOI SIMNI(SilicononInsulator SeparationbyImplantationofNitrogen)薄膜材料 .用液氦低温霍耳效应进行了分析测量 .测量结果表明 :分步注入法制备得到的样品具有低的薄层电阻R□ 和较高的载流子迁移率 .实验证明用分步注入法可以明显改善SIMNI薄膜材料的电学性能 .对实验结果和机理进行了解释 .
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关键词
离子注入
分步注入
霍耳效应测量
电学性能
SOI-SIMNI
薄膜
原文传递
题名
霍耳效应实验分析
被引量:
3
1
作者
顾应龙
茶国志
张茜
吴宁园
机构
云南大理学院
出处
《聊城师院学报(自然科学版)》
2002年第3期22-25,79,共5页
文摘
对霍耳效应测量磁感应强度的实验原理作了分析,讨论了外界定向干扰磁场对实验的影响、指出在实验教学中,相邻霍耳效应测量仪摆放距离宜大于等于2.5m才能忽略相互干扰.
关键词
霍耳效应
实验
霍耳效应测量
仪
磁场干扰
磁感应强度
实验原理
霍耳电势差
Keywords
Hall effect,magnetic field,influence
分类号
O44-33 [理学—电磁学]
下载PDF
职称材料
题名
用分步注入法改善SOI-SIMNI薄膜材料的电学性能
2
作者
卢殿通
黄栋
HEINER RYSSEL
机构
北京师范大学低能核物理研究所
Fraung ofer Arbeitsgruppe fur Integrierte Schaitungem
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第1期185-188,共4页
基金
国家自然科学基金!(批准号 :6 9776 0 0 6 )
北京自然科学基金!(批准号 :495 2 0 0 2 )资助的课题&&
文摘
采用常规方法和分步注入法制备SOI SIMNI(SilicononInsulator SeparationbyImplantationofNitrogen)薄膜材料 .用液氦低温霍耳效应进行了分析测量 .测量结果表明 :分步注入法制备得到的样品具有低的薄层电阻R□ 和较高的载流子迁移率 .实验证明用分步注入法可以明显改善SIMNI薄膜材料的电学性能 .对实验结果和机理进行了解释 .
关键词
离子注入
分步注入
霍耳效应测量
电学性能
SOI-SIMNI
薄膜
Keywords
ion implantation, SOI\|SIMNI films, multiple\|step implantation, hall\|effects measurements
分类号
O484 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
霍耳效应实验分析
顾应龙
茶国志
张茜
吴宁园
《聊城师院学报(自然科学版)》
2002
3
下载PDF
职称材料
2
用分步注入法改善SOI-SIMNI薄膜材料的电学性能
卢殿通
黄栋
HEINER RYSSEL
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
0
原文传递
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