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薄铜产品缺口开路改善
1
作者
张真华
《印制电路信息》
2020年第6期11-14,共4页
薄铜产品面铜极差要求±1μm,常规工艺达不到此要求。本司采用的露孔镀工艺,面铜不需加厚,可保证优秀的铜厚极差,但该工艺通孔孔口会产生25~30μm的凸台,导致图形后凸台区域的线路批量缺口开路。文章通过对比不同干膜,不同贴膜方向...
薄铜产品面铜极差要求±1μm,常规工艺达不到此要求。本司采用的露孔镀工艺,面铜不需加厚,可保证优秀的铜厚极差,但该工艺通孔孔口会产生25~30μm的凸台,导致图形后凸台区域的线路批量缺口开路。文章通过对比不同干膜,不同贴膜方向以及设计上进行优化等方式,解决了此类缺口开路报废。
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关键词
面铜
露孔镀
缺口开路
凸台
干膜
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职称材料
题名
薄铜产品缺口开路改善
1
作者
张真华
机构
深南电路股份有限公司
出处
《印制电路信息》
2020年第6期11-14,共4页
文摘
薄铜产品面铜极差要求±1μm,常规工艺达不到此要求。本司采用的露孔镀工艺,面铜不需加厚,可保证优秀的铜厚极差,但该工艺通孔孔口会产生25~30μm的凸台,导致图形后凸台区域的线路批量缺口开路。文章通过对比不同干膜,不同贴膜方向以及设计上进行优化等方式,解决了此类缺口开路报废。
关键词
面铜
露孔镀
缺口开路
凸台
干膜
Keywords
Surface Copper
Hole Plating Only
Gap and Opening
Convex Platform
Dry Film
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
薄铜产品缺口开路改善
张真华
《印制电路信息》
2020
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