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一台AMS的静电偏转器
被引量:
5
1
作者
蒋崧生
马铁军
+2 位作者
姜山
李耀华
余锦淮
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第4期29-33,共5页
文章描述一台静电偏转器的设计、结构和调试。静电偏转器的角度为15°,曲率半径360cm,两板面距离3cm。两板正负电压已达到+92.4 kV和-80kV,电场梯度为57.5kV/cm。该静电偏转器用作加速器质谱计(AMS)的能量分析。
关键词
静电偏转器
能量分析
加速
器
质谱计
下载PDF
职称材料
DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计
2
作者
刘珠明
顾文琪
李艳秋
《微细加工技术》
2004年第1期23-27,46,共6页
基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体...
基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差。动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2nm;偏转场大小为1mm×1mm时,束斑分辨率约为29.8nm。结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求。
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关键词
DY-2001A型
纳米级电子束曝光机
静电偏转器
设计
二阶有限元
光刻技术
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职称材料
自旋极化电子源装置研究
3
作者
邓玲娜
刘义保
何为民
《科技广场》
2005年第2期100-102,共3页
自旋极化电子在许多研究领域有着广泛用途,目前国际上普遍采用光电离GaAs晶体产生自旋极化电子。本文介绍自旋极化电子产生的原理及一种设计简洁、结构简单的极化电子源装置。该十字型四通道装置内有一非常简单的900静电偏转器,新型的...
自旋极化电子在许多研究领域有着广泛用途,目前国际上普遍采用光电离GaAs晶体产生自旋极化电子。本文介绍自旋极化电子产生的原理及一种设计简洁、结构简单的极化电子源装置。该十字型四通道装置内有一非常简单的900静电偏转器,新型的用于固定晶片的弹簧夹子可保证晶片加热均匀。用波长780nm圆偏振激光激活GaAs光电阴极可以产生极化电子,然后通过900静电偏转器及一组静电透镜将极化电子引到反应区。
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关键词
极化电子源
装置
自旋极化电子
静电偏转器
GAAS晶体
研究领域
加热均匀
光电阴极
偏振激光
静电
透镜
900
光电离
四通道
十字型
反应区
晶片
波长
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职称材料
高速扫描技术的研究
4
作者
郭忠君
《电子器件》
CAS
1997年第1期694-698,共5页
文章对微细加工技术中电子束曝光机的高速扫描技术进行了研究和探讨,对静电偏转和电磁偏转进行了比技.并对研制成功的电极共用式八极静电偏转器作了详细的介绍.
关键词
电子束曝光
高速扫描
静电偏转器
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职称材料
题名
一台AMS的静电偏转器
被引量:
5
1
作者
蒋崧生
马铁军
姜山
李耀华
余锦淮
机构
中国原子能科学研究院
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第4期29-33,共5页
文摘
文章描述一台静电偏转器的设计、结构和调试。静电偏转器的角度为15°,曲率半径360cm,两板面距离3cm。两板正负电压已达到+92.4 kV和-80kV,电场梯度为57.5kV/cm。该静电偏转器用作加速器质谱计(AMS)的能量分析。
关键词
静电偏转器
能量分析
加速
器
质谱计
Keywords
Electrostatic deflector
Energy analysis
Accelerator mass spectrometry
分类号
TL817.4 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计
2
作者
刘珠明
顾文琪
李艳秋
机构
中国科学院电工研究所
出处
《微细加工技术》
2004年第1期23-27,46,共6页
基金
中科院知识创新工程重大项目资助(KGCX1-Y-8)
文摘
基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高。采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布。高精度的场分布有利于高级像差。为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差。动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2nm;偏转场大小为1mm×1mm时,束斑分辨率约为29.8nm。结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求。
关键词
DY-2001A型
纳米级电子束曝光机
静电偏转器
设计
二阶有限元
光刻技术
Keywords
electrostatic deflector
second-order finite element
optimization
aberrations
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
自旋极化电子源装置研究
3
作者
邓玲娜
刘义保
何为民
机构
东华理工学院物理系
出处
《科技广场》
2005年第2期100-102,共3页
文摘
自旋极化电子在许多研究领域有着广泛用途,目前国际上普遍采用光电离GaAs晶体产生自旋极化电子。本文介绍自旋极化电子产生的原理及一种设计简洁、结构简单的极化电子源装置。该十字型四通道装置内有一非常简单的900静电偏转器,新型的用于固定晶片的弹簧夹子可保证晶片加热均匀。用波长780nm圆偏振激光激活GaAs光电阴极可以产生极化电子,然后通过900静电偏转器及一组静电透镜将极化电子引到反应区。
关键词
极化电子源
装置
自旋极化电子
静电偏转器
GAAS晶体
研究领域
加热均匀
光电阴极
偏振激光
静电
透镜
900
光电离
四通道
十字型
反应区
晶片
波长
Keywords
GaAs crystal
Polarized electrons
Polarized electron source
900 electrostatic de- flector
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
TM15 [电气工程—电工理论与新技术]
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职称材料
题名
高速扫描技术的研究
4
作者
郭忠君
机构
电子工业部第四十八研究所
出处
《电子器件》
CAS
1997年第1期694-698,共5页
文摘
文章对微细加工技术中电子束曝光机的高速扫描技术进行了研究和探讨,对静电偏转和电磁偏转进行了比技.并对研制成功的电极共用式八极静电偏转器作了详细的介绍.
关键词
电子束曝光
高速扫描
静电偏转器
Keywords
Electron-beam Lithography, High-speed scanning, Eight-electrode Electrostatic deflector
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一台AMS的静电偏转器
蒋崧生
马铁军
姜山
李耀华
余锦淮
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991
5
下载PDF
职称材料
2
DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计
刘珠明
顾文琪
李艳秋
《微细加工技术》
2004
0
下载PDF
职称材料
3
自旋极化电子源装置研究
邓玲娜
刘义保
何为民
《科技广场》
2005
0
下载PDF
职称材料
4
高速扫描技术的研究
郭忠君
《电子器件》
CAS
1997
0
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职称材料
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