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位阻基团对靛吩咛染料染色性能的影响
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作者 卫艳影 江华 《现代纺织技术》 北大核心 2024年第7期86-96,共11页
为探究噻吩单元取代基对靛吩咛型分散染料染色性能的影响,采用靛吩咛反应合成3支蓝色染料D1—D3,通过高温高压染色法对涤纶织物进行染色,并测试了染色织物的上染率、色深和色牢度。结果表明:染料D1—D3的合成收率为61%~85%,在二氯甲烷... 为探究噻吩单元取代基对靛吩咛型分散染料染色性能的影响,采用靛吩咛反应合成3支蓝色染料D1—D3,通过高温高压染色法对涤纶织物进行染色,并测试了染色织物的上染率、色深和色牢度。结果表明:染料D1—D3的合成收率为61%~85%,在二氯甲烷中的最大吸收波长位于635~649 nm,摩尔消光系数为16500~39300 L/(mol·cm),且具有较好的热稳定性与耐酸碱稳定性。染色优化工艺参数为:染色温度130℃、浴比1∶40、染浴pH值5~6。在优化染色工艺条件下,染料D1—D3的上染率分别为84.8%、97.5%和93.3%,染色织物K/S值分别为17、8和16,耐摩擦、耐皂洗和耐升华色牢度均在4级以上;染色织物还具有很好的耐迁移性,染料迁移率均在10%以下。噻吩单元引入取代基对于调节靛吩咛染料分子间作用力、提升上染率具有显著的促进作用。 展开更多
关键词 靛吩咛 位阻基团 染色性能 涤纶 热迁移
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靛吩咛染料的分散性及其对染色性能的影响 被引量:3
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作者 胡倩 江华 +2 位作者 刘俊英 陈维国 崔志华 《印染》 北大核心 2019年第19期1-7,共7页
在分散染料中引入共平面结构有利于染后织物获得更好的耐湿处理色牢度和耐热迁移色牢度。然而,平面性分子的聚集倾向会对染色过程造成不利影响。本试验以具有大平面共辘体系的靛吩咛结构为模型合成4支疏水性靛吩咛染料,并以GI.分散蓝291... 在分散染料中引入共平面结构有利于染后织物获得更好的耐湿处理色牢度和耐热迁移色牢度。然而,平面性分子的聚集倾向会对染色过程造成不利影响。本试验以具有大平面共辘体系的靛吩咛结构为模型合成4支疏水性靛吩咛染料,并以GI.分散蓝291及C.I.分散蓝56为参考,研究了共平面分子结构对染料分散性、分散稳定性的影响规律。结果表明,与常规偶氮、蔥醍分散染料相比,靛吩咛染料在充分研磨至平衡状态后,其分散体系具有更低的平均粒径及更好的分散稳定性,靛吩咛染料对涤纶织物的上染率受分散体系中染料颗粒平均粒径的影响更大;将乙基引入靛吩咛分子中可以调控染料分子间作用力,从而有利于提升染料的分散性能及上染性能。 展开更多
关键词 分散染料 靛吩咛染料 染色 共平面性 分散性能 涤纶
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N-甲基靛吩咛染料对涤纶织物染色性能及其上染机理 被引量:3
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作者 胡倩 江华 +2 位作者 王鹏 崔志华 陈维国 《浙江理工大学学报(自然科学版)》 2020年第2期166-172,共7页
自制一支具有醌式平面结构的N-甲基靛吩咛染料D1,探讨其光谱吸收特性及染料分子共平面性对涤纶织物染色性能的影响,并研究染料D1上染涤纶过程中的染色热力学与动力学特征。结果表明:当染料用量为1%owf时,染料D1对涤纶织物染色的上染率为... 自制一支具有醌式平面结构的N-甲基靛吩咛染料D1,探讨其光谱吸收特性及染料分子共平面性对涤纶织物染色性能的影响,并研究染料D1上染涤纶过程中的染色热力学与动力学特征。结果表明:当染料用量为1%owf时,染料D1对涤纶织物染色的上染率为81.0%,K/S值为10.5,染后织物的耐皂洗、耐摩擦和耐升华色牢度均达到4级以上;染料D1对涤纶织物的吸附等温线符合Nernst热力学吸附模型,当染色温度从120℃上升至130℃时,染料D1的亲和力随之增大了2 kJ/mol,而C.I.分散蓝56的亲和力仅增大1 kJ/mol;染料D1对涤纶织物的染色符合准二级动力学模型,在130℃下,染料D1扩散速率较C.I.分散蓝56更快,且染料D1的扩散系数随着温度的升高明显增大,而C.I.分散蓝56的扩散系数变化不明显。 展开更多
关键词 靛吩咛 染料 染色性能 染色热力学 染色动力学 涤纶织物
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