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元器件纯锡镀层表面晶须风险评估与对策 被引量:5
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作者 许慧 罗道军 《电子工艺技术》 2007年第5期249-252,共4页
讨论了各种锡晶须的形态以及其长度的具体测量方法,并在试验研究的基础上进一步分析抑制非光滑(哑光)纯锡镀层上锡晶须生长的对策。研究结果表明,增加锡镀层厚度(>7μm),或通过使用添加剂来产生更加粗糙的表面以适当增大晶粒尺寸,电... 讨论了各种锡晶须的形态以及其长度的具体测量方法,并在试验研究的基础上进一步分析抑制非光滑(哑光)纯锡镀层上锡晶须生长的对策。研究结果表明,增加锡镀层厚度(>7μm),或通过使用添加剂来产生更加粗糙的表面以适当增大晶粒尺寸,电镀完成后及时进行退火程序是进一步减轻雾锡镀层上锡晶须困扰的有效手段。如果引入N i作为中间镀层,则需要达到一定的厚度(估计>0.7μm),方可达到预期的效果。 展开更多
关键词 晶须 形态 加速试验评估 非光滑锡镀层
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