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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在切削刀具上的应用 被引量:10
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作者 白力静 李玉庆 +1 位作者 肖继明 蒋百灵 《西安理工大学学报》 CAS 2006年第1期20-23,共4页
闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制膜时镀层设计不受元素化合价及相图的限制,工艺控制简单,可以方便地设计镀层的成分和结构,且膜/基结合性能突出。研究了用该技术制备的硬质CrTiAlN梯度膜,该膜具有良好的结合力和韧性,在无润滑切削条件... 闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制膜时镀层设计不受元素化合价及相图的限制,工艺控制简单,可以方便地设计镀层的成分和结构,且膜/基结合性能突出。研究了用该技术制备的硬质CrTiAlN梯度膜,该膜具有良好的结合力和韧性,在无润滑切削条件下,适用不同的切削方式:对于普通高速钢钻头提高寿命数十倍,同时扩展工件材料至高强度钢;对断续式的铣削黄铜,可提高寿命25倍;对于加工PVC板的微钻,寿命仍可提高4倍以上。 展开更多
关键词 闭合平衡磁控溅射 刀具 镀层设计 结合强度
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辐射场非平衡性对CH薄膜烧蚀特性的影响 被引量:1
2
作者 李永升 高耀明 曾先才 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期930-934,共5页
为研究辐射场非平衡性对ICF内爆靶丸辐射烧蚀效果的影响,在普朗克谱的高频区(Au的M带)叠加高斯谱人为地构造辐射源的能谱,利用1维多群辐射输运流体力学程序RDMG模拟CH薄膜的烧蚀过程,考察烧蚀压、预热、压缩比、冲击波速度等物理量受辐... 为研究辐射场非平衡性对ICF内爆靶丸辐射烧蚀效果的影响,在普朗克谱的高频区(Au的M带)叠加高斯谱人为地构造辐射源的能谱,利用1维多群辐射输运流体力学程序RDMG模拟CH薄膜的烧蚀过程,考察烧蚀压、预热、压缩比、冲击波速度等物理量受辐射场非平衡性的影响。模拟结果表明,Au的M带辐射有明显的增强预热、减小冲击波压缩比的作用,从而间接地影响了烧蚀冲击波的速度。 展开更多
关键词 惯性约束聚变 平衡辐射 CH薄膜 Au的M带辐射 辐射烧蚀 冲击波
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闭合场非平衡磁控溅射离子镀复合金属镀层在PCB微钻中的应用 被引量:4
3
作者 种艳琳 李小泉 《印制电路信息》 2006年第4期35-39,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB微钻上进行复合金属镀层处理,通过与无镀层微钻进行钻削试验对比,结果表明:复合金属镀层微钻使用寿命与未镀层微钻相比,可提高4倍;具有纳米结构的高硬度复合金属镀层显著提高了微钻的耐磨性。
关键词 闭合平衡磁控溅射离子镀 复合金属镀层 PCB微钻
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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在PCB铣刀上的应用与研究 被引量:1
4
作者 李凌 文晓斌 李小泉 《印制电路信息》 2006年第1期43-45,共3页
介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的超硬纳米梯度复合镀层在PCB铣刀上的应用,实验结果证明,镀层后铣刀的寿命提高到原来的4倍以上。采用SEM和TEM法,分析了镀层的组织与相结构,揭示了镀层提高铣刀寿命的原因。
关键词 PCB铣刀 闭合平衡磁控溅射离子镀 超硬纳米梯度复合镀层 CrAITiN
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闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术概述 被引量:2
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作者 巩中宣 《内燃机与配件》 2013年第1期19-21,24,共4页
2磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子镀过程的优点(能改变膜基界面的结合形式,提高膜基附... 2磁控溅射离子镀2.1磁控溅射离子镀磁控溅射离子镀(MSIP)是指基体带有负偏压的磁控溅射镀膜工艺,它把磁控溅射的优点(成膜速率高、源为大平面源,有利于膜层厚度均匀)和离子镀过程的优点(能改变膜基界面的结合形式,提高膜基附着力,膜层组织致密等)结合在一起。 展开更多
关键词 闭合平衡磁控溅射离子镀 技术 镀膜工艺 膜层厚度 负偏压 附着力 成膜
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散度方程简化及其应用研究的若干问题 被引量:14
6
作者 陈忠明 《大气科学》 CSCD 北大核心 1993年第5期540-547,共8页
本文在综合分析有关工作的基础上,对散度方程的简化及其应用等问题作了进一步研究,得到了一些新的认识.
关键词 散度方程 平衡 中尺度天气
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磁控溅射技术进展及应用(下) 被引量:16
7
作者 徐万劲 《现代仪器》 2005年第6期5-10,共6页
近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自... 近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。 展开更多
关键词 磁控管 溅射率 平衡磁控溅射 闭合平衡磁控溅射 自溅射
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先进表面工程技术的发展前沿 被引量:1
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作者 梁文萍 缪强 +1 位作者 张平则 姚正军 《山西能源与节能》 2010年第4期72-75,86,共5页
叙述了表面工程的分类及各种表面工程技术的应用现状和发展趋势,指出,双层辉光等离子表面冶金技术、激光表面冶金技术、离子注入、加弧辉光离子渗镀技术和闭合场非平衡磁控溅射等先进技术是表面工程技术研究应用的前沿。
关键词 表面工程技术 双层辉光等离子表面冶金技术 激光表面冶金技术 离子注入 加弧辉光离子渗镀技术 闭合平衡磁控溅射
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氮化钛镀膜对纯钛铸件表面耐磨性的影响
9
作者 佟宇 郭天文 +2 位作者 肖慧军 王菁 梁海锋 《国际口腔医学杂志》 CAS 2011年第1期31-33,共3页
目的研究氮化钛(TiN)镀膜对纯钛铸件表面硬度和耐磨性的影响。方法应用闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)方法在纯钛铸件表面制备TiN薄膜,显微硬度仪测量纯钛铸件表面硬度,磨擦磨损试验评估其耐磨性。结果纯钛铸件表面应用CFUBMS方法制备Ti... 目的研究氮化钛(TiN)镀膜对纯钛铸件表面硬度和耐磨性的影响。方法应用闭合场非平衡磁控溅射(CFUBMS)方法在纯钛铸件表面制备TiN薄膜,显微硬度仪测量纯钛铸件表面硬度,磨擦磨损试验评估其耐磨性。结果纯钛铸件表面应用CFUBMS方法制备TiN薄膜后,显微硬度明显增加,磨擦系数和磨损体积明显减小。结论 CFUBMS氮化钛镀膜对纯钛铸件有较好的磨损保护作用。 展开更多
关键词 氮化钛 闭合平衡磁控溅射 显微硬度 耐磨性
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费米气体通过量子点接触的输运行为简介
10
作者 单春园 代晓宇 刘波扬 《物理与工程》 2023年第5期67-74,共8页
输运测量是研究物质状态基本性质的重要工具。其中通过量子点接触(Quantum Point Contact)的输运是介观物理学中一个非常有趣的现象。在无相互作用或弱相互作用费米系统中,电导随门电压的变化呈现出量子化的阶梯状,这一现象揭示了物质... 输运测量是研究物质状态基本性质的重要工具。其中通过量子点接触(Quantum Point Contact)的输运是介观物理学中一个非常有趣的现象。在无相互作用或弱相互作用费米系统中,电导随门电压的变化呈现出量子化的阶梯状,这一现象揭示了物质的量子特性。近年来,冷原子体系中输运的研究已成为该领域的前沿研究之一冷原子体系具有高度可操控性的特点,也存在许多新奇物态,因此可以在冷原子的输运实验中观测到许多材料物理中无法观测到的新的实验现象。本文将以综述的形式介绍冷原子费米气体通过量子点接触的输运行为的一些前沿实验进展,此外,我们也将介绍处理该体系常用的非平衡场论方法。 展开更多
关键词 冷原子 输运行为 量子点接触 非平衡场论
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CrAlTiN镀层在精密铣刀上的应用研究 被引量:4
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作者 李凌 蒋百灵 白力静 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期56-59,共4页
介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的CrA lTiN超硬纳米梯度复合镀层在铣刀上的应用,试验结果表明,铣刀在离子镀处理之后寿命提高为原来的3倍。采用SEM和TEM分析了镀层铣刀磨损后的表面形貌及无镀层铣刀的失效方式,揭示了... 介绍了通过闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备出的CrA lTiN超硬纳米梯度复合镀层在铣刀上的应用,试验结果表明,铣刀在离子镀处理之后寿命提高为原来的3倍。采用SEM和TEM分析了镀层铣刀磨损后的表面形貌及无镀层铣刀的失效方式,揭示了镀层提高铣刀寿命的原因。 展开更多
关键词 CrAlTiN镀层 铣刀 闭合平衡磁控溅射 离子镀 耐磨性
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在聚四氟乙烯基体上氧化铝涂层的反应沉积
12
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期70-70,共1页
关键词 聚四氟乙烯 基体 氧化铝涂层 反应沉积 闭合平衡磁控溅射装置 反应溅射技术
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磁控溅射工艺对CrN基复合涂层微观结构及摩擦学性能的影响
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作者 张平 底月兰 +2 位作者 蔡志海 杨臻 沈维 《装甲兵工程学院学报》 2012年第5期85-90,共6页
采用闭合场非平衡磁控溅射技术在不锈钢基体上制备了不同质量分数Mo的CrMoN复合涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)和光电子能谱仪(XPS),系统分析了CrMoN复合涂层的相结构、表面形貌、成分、原子化合价价态... 采用闭合场非平衡磁控溅射技术在不锈钢基体上制备了不同质量分数Mo的CrMoN复合涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDX)和光电子能谱仪(XPS),系统分析了CrMoN复合涂层的相结构、表面形貌、成分、原子化合价价态等,结果表明:添加Mo后,CrMoN涂层的择优取向由CrN涂层的(220)转变为(200),CrMoN涂层中的Mo原子取代了CrN晶格中的Cr原子,形成(Cr,Mo)N置换固溶体。采用Nano Test600硬度测试仪测定了CrMoN复合涂层的纳米硬度,结果表明:由于CrN相和MoN两种硬相的协同作用,使得CrMoN复合涂层的纳米硬度值增大。采用多功能摩擦磨损试验机测定了CrN涂层及CrMoN复合涂层的摩擦因数,结果表明:CrMoN复合涂层的摩擦因数低于CrN涂层,磨损过程中由于摩擦热反应生成大量MoO3,使得复合膜的摩擦因数降低,起到了一定的润滑效果,降低了磨损量。 展开更多
关键词 CrMoN复合涂层 闭合平衡磁控溅射 微观组织 纳米硬度
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不同润滑环境类石墨碳膜的摩擦特性 被引量:4
14
作者 马中伟 王佐平 +3 位作者 何源 张汝仙 陈分宏 陈喜锋 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1368-1372,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射技术在渗碳淬火钢基体表面制备了类石墨碳膜,分别在无润滑、水润滑和油润滑下,用POD销–盘磨损仪研究了同质对磨(试样和对磨钢球表面均制备了类石墨碳膜)的类石墨碳膜摩擦学特性。研究表明:类石墨碳膜在不同润... 采用闭合场非平衡磁控溅射技术在渗碳淬火钢基体表面制备了类石墨碳膜,分别在无润滑、水润滑和油润滑下,用POD销–盘磨损仪研究了同质对磨(试样和对磨钢球表面均制备了类石墨碳膜)的类石墨碳膜摩擦学特性。研究表明:类石墨碳膜在不同润滑环境和线速度下有优良的耐磨、减摩性能;线速度为0.3 m/s时,干摩擦和水润滑类同质对磨的类石墨碳膜有异常磨损现象,干摩擦为微切削犁沟磨损,水润滑为片状剥落磨损。 展开更多
关键词 类石墨碳膜 闭合平衡磁控溅射 犁沟磨损 片状剥落磨损
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