非晶SiO_X薄膜的制备及光学特性的研究

采用双离子束共溅射方法制备了SiOX 薄膜 ,XRD和TEM的分析表明SiOX 薄膜为非晶结构 ,XPS分析表明样品主要是以SiO1.90 的形式存在于薄膜中。其光吸收谱呈现了明显的吸收边蓝移现象 ,且随薄膜厚度的增加 ,光吸收谱中出现了较明显的宽化的吸收峰。在室温下观察到了可见光致发光 (PL)现象 ,探测到样品有四个PL峰 ,它们的峰位分别为～ 32 0nm、～ 4 1 0nm、～ 56 0nm和～ 6 30nm 。