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脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析
1
作者
马婷婷
王雪敏
+3 位作者
王海平
李建根
戴阳
吴卫东
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期1291-1295,共5页
采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响。原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大。拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动。傅里叶...
采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响。原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大。拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动。傅里叶变换红外光谱分析显示,薄膜中存在sp3—CH2和sp2—CH等基团。最后,采用PLD漂浮法在最优参数氢气压强为0.3 Pa下,成功制备了不同厚度(100-300 nm)、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑CH薄膜。
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关键词
非晶ch薄膜
脉冲激光沉积
自支撑
光谱分析
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职称材料
题名
脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析
1
作者
马婷婷
王雪敏
王海平
李建根
戴阳
吴卫东
机构
西南科技大学理学院
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期1291-1295,共5页
文摘
采用脉冲激光气相沉积(PLD)法,研究了氢气压强对非晶CH薄膜性能的影响。原子力显微镜图和白光干涉图显示,薄膜表面平整致密,随着氢气压强增大,粗糙度变大。拉曼光谱分析表明,氢气压强增加,G峰和D峰位置都在向高波数方向移动。傅里叶变换红外光谱分析显示,薄膜中存在sp3—CH2和sp2—CH等基团。最后,采用PLD漂浮法在最优参数氢气压强为0.3 Pa下,成功制备了不同厚度(100-300 nm)、满足一定力学强度、无明显宏观缺陷的自支撑CH薄膜。
关键词
非晶ch薄膜
脉冲激光沉积
自支撑
光谱分析
Keywords
amorphous hydrogenated carbon thin film
pulsed laser deposition
self-supporting
spectral analysis
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
脉冲激光气相沉积法制备的非晶CH薄膜特性分析
马婷婷
王雪敏
王海平
李建根
戴阳
吴卫东
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
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