靶面淀积参数对真空微电子平板摄像管特性的影响

为了开发用于真空微电子平板摄像管的高灵敏度CdSe多层光导材料 ,改建了一台能精确控制CdSe材料的蒸发速率、厚度和基体温度的高真空蒸镀设备 ,开发了由真空热预处理 ,非真空热后处理二种处理新工艺 ,制造出了新的高性能的CdSe多层光导靶。使CdSe多层光导靶的灵敏度提高了两个数量级 ,而清晰度 (分辨率 )保持不变。

烧结Nd-Fe-B磁体表面铝薄膜的性能和微观结构

采用多弧离子镀在烧结Nd-Fe-B磁体表面制备了铝薄膜,研究沉积时间和热处理温度对薄膜性能和微观结构的影响。利用扫描电镜和X射线衍射仪分析薄膜的微观结构和物相组成,通过涂层附着力自动划痕仪和电化学工作站测试薄膜与基体间的结合力以及耐腐蚀性能。结果表明:随着沉积时间增加,铝薄膜平均厚度增加,当沉积时间为20 min时,薄膜的耐腐蚀性能最佳;铝薄膜表面存在菜花状液滴堆叠现象,其液滴直径随沉积时间增加而降低。非真空热处理后薄膜表面颗粒熔化和长大,菜花状液滴堆叠现象消失;随着热处理温度升高,铝薄膜的腐蚀电流密度先减小后略微增大;热处理温度为530℃时,腐蚀电流密度最小,沉积铝薄膜磁体的耐腐蚀性能得到改善。