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三方晶系的非线性磁光克尔谱及其表面磁化强度取向的效应
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作者 曾民勇 黄志高 +2 位作者 赖恒 陈志高 赖发春 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第10期942-947,共6页
本文计算了三方结构不同表面和不同磁化强度取向下的 χ( 2 ) 、SHG、MSHG及非线性克尔旋转角 Φ( 2 )k,a.结果表明 ,SHG和 Φ( 2 )k,a值非常灵敏地依赖于薄膜的表面及磁化强度的取向 ;三方结构的 SHG、Φ( 2 )k,a与 fcc、bcc和 hcp结... 本文计算了三方结构不同表面和不同磁化强度取向下的 χ( 2 ) 、SHG、MSHG及非线性克尔旋转角 Φ( 2 )k,a.结果表明 ,SHG和 Φ( 2 )k,a值非常灵敏地依赖于薄膜的表面及磁化强度的取向 ;三方结构的 SHG、Φ( 2 )k,a与 fcc、bcc和 hcp结构的相比有很大的差异 ,这表明结构对非线性磁光效应有重要的影响 ;当 M∥X、Y轴时 ,MSHG信号很明显 ,这表明可通过 A值的测量来研究磁性薄膜表面的磁畴结构以及取向 . 展开更多
关键词 非线性磁光克尔谱 化强度 薄膜 三方晶系
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