用于非金属核素面源制备的阳极氧化工艺的建立

为研究铝氧化膜成膜工艺参数,验证氧化膜吸附放射性核素^(14)C性能,通过建立一套20%硫酸体系阳极氧化装置,研究在电解液温度14~20℃、电压10~22 V、成膜时间20~150 min范围内各参数与氧化膜厚度的关系。结果表明,该方法研制生产的氧化膜厚度在4~60μm之间。通过实验验证,采用研制的4~12μm的氧化膜,厚度均匀性优于7%,对^(14)C的吸附率大于75%。本研究结果可为非金属核素标准面源的研制提供一种新的方法。