接近式光刻中基于条纹相位解析的掩模硅片面内倾斜校正研究

针对接近式光刻中掩模硅片面内倾斜提出一种条纹相位解析方法。该方法通过2D傅里叶变换结合2D汉宁窗对于掩模硅片在面内发生的倾斜而形成的倾斜条纹进行处理,获得掩模硅片在面内的倾斜角度,进而进行倾斜校正。数值模拟与实验验证了该方法的可行性与有效性。结果表明,该方法能准确获得掩模硅片在面内的倾斜角度并进行校正。

双向角度梯度内凹蜂窝结构的面内倾斜冲击性能研究

基于典型内凹蜂窝负泊松比蜂窝结构,设计了一种具有角度梯度分布的新型内凹负泊松比蜂窝结构,建立了双向递增和双向递减两类角度梯度变化的内凹蜂窝有限元模型。对典型负泊松比蜂窝结构和双向角度梯度蜂窝结构的吸能效果进行了准静态试验研究对比。通过有限元软件ABAQUS/Explicit,研究了面内倾斜冲击载荷作用下两类角度梯度内凹蜂窝结构的变形模式、平台应力和能量吸收特性。计算结果表明,当冲击倾角为2°时,角度梯度值为3°的新型角度梯度蜂窝结构具有较高的平台应力和良好的能量吸收模式。