调制脉冲磁控溅射峰值靶功率密度对纯Ti镀层沉积行为的影响（英文）

调制脉冲磁控溅射可通过改变强、弱离化阶段的脉冲强度和占空比等电场参量,大幅调控镀料粒子的离化率、沉积能量和数量,实现对沉积镀层形核与生长过程的精确把控。在非平衡闭合磁场条件下,采用调制脉冲磁控溅射技术,通过对其强离化脉冲阶段的脉冲宽度和靶功率进行调控获得持续增大的峰值靶功率密度,并在此条件下制备多组纯Ti镀层,对其微观形貌和力学性能进行了检测分析。结果表明,当强离化脉冲阶段的峰值靶功率密度由0.15 k W·cm^-2持续增大至0.86 k W·cm-2时,所制备的纯Ti镀层具有11 nm的平均晶粒尺寸,且较其他峰值靶功率密度条件下的制备镀层具有更为致密的组织结构、平整的表面质量(表面粗糙度Ra为11 nm)和良好的力学性能。

基于正态过程的激光武器毁伤概率仿真分析

目前激光武器的毁伤概率没有明确的定义和定量分析方法,针对上述问题,定义了毁伤概率且提出了在正态过程下分析毁伤概率的方法。推导出激光武器到靶功率密度计算模型;根据到靶功率/能量密度定义了毁伤概率;在正态过程中分析到靶能量密度的概率密度函数,计算目标的毁伤概率;从反舰导弹的飞行轨迹出发,推导并计算出导弹末端飞行任意位置对应的毁伤概率。该方法可有效提高激光武器毁伤预估和射击时机选取能力。

高斯光束特性分析及其应用

为了在实际应用过程中更好地理解和应用高斯光束的特性,采用理论计算公式推导了桶中功率、到靶功率密度、亮度的公式,对几种特殊情况的归一化参量进行了计算和对比,并对实际使用中容易产生混淆的问题进行了分析。结果表明,该研究对于激光系统的设计和使用具有一定的参考价值。

X光焦斑测量方法研究

采用组合型诊断技术获取Ｘ光辐射时间、空间、能谱相互关联的３维信息，得到了Ｘ光焦斑随时间和随入射激光能量的变化关系，并观测到膨胀等离子体、探测器阈值。