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平面弧靶结构对锆膜层性能的影响
被引量:
1
1
作者
刘际伟
刘永华
张跃杰
《真空》
CAS
北大核心
2008年第4期80-82,共3页
通过对靶座结构的改变,使得靶面不再存在其他材质,由此提高了电弧离子镀膜膜层的纯度。考核了靶结构调整前后所镀制锆膜层的耐酸蚀性能,通过XPS手段测试了两种状态下膜层的成份及其含量,解释了两种膜层耐酸蚀性能差异的原因。
关键词
电弧离子镀膜
耐蚀性
Zr膜
靶座结构
下载PDF
职称材料
题名
平面弧靶结构对锆膜层性能的影响
被引量:
1
1
作者
刘际伟
刘永华
张跃杰
机构
中国工程物理研究院化工材料研究所
出处
《真空》
CAS
北大核心
2008年第4期80-82,共3页
文摘
通过对靶座结构的改变,使得靶面不再存在其他材质,由此提高了电弧离子镀膜膜层的纯度。考核了靶结构调整前后所镀制锆膜层的耐酸蚀性能,通过XPS手段测试了两种状态下膜层的成份及其含量,解释了两种膜层耐酸蚀性能差异的原因。
关键词
电弧离子镀膜
耐蚀性
Zr膜
靶座结构
Keywords
arc discharge deposition
resistance to acid corrosion
Zr film
target construction
分类号
O461.22 [理学—电子物理学]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
平面弧靶结构对锆膜层性能的影响
刘际伟
刘永华
张跃杰
《真空》
CAS
北大核心
2008
1
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职称材料
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