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平面弧靶结构对锆膜层性能的影响 被引量:1
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作者 刘际伟 刘永华 张跃杰 《真空》 CAS 北大核心 2008年第4期80-82,共3页
通过对靶座结构的改变,使得靶面不再存在其他材质,由此提高了电弧离子镀膜膜层的纯度。考核了靶结构调整前后所镀制锆膜层的耐酸蚀性能,通过XPS手段测试了两种状态下膜层的成份及其含量,解释了两种膜层耐酸蚀性能差异的原因。
关键词 电弧离子镀膜 耐蚀性 Zr膜 靶座结构
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