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激光微推进的靶特性研究进展 被引量:10
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作者 叶继飞 洪延姬 王广宇 《推进技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期751-756,761,共7页
2003年,首款激光等离子体微推力器(micro-Laser Plasma Thruster,μLPT)应用于美国空军微小卫星姿态轨道控制,激光微推进技术越来越受到业内人士的广泛关注。总结了激光微推进的五种工作模式,并进行了简要分析,重点关注了激光微推进技... 2003年,首款激光等离子体微推力器(micro-Laser Plasma Thruster,μLPT)应用于美国空军微小卫星姿态轨道控制,激光微推进技术越来越受到业内人士的广泛关注。总结了激光微推进的五种工作模式,并进行了简要分析,重点关注了激光微推进技术发展过程中的靶特性研究现状,介绍了靶材物态和靶材结构两个方面的推进性能研究进展,并对其进行了分析,对激光微推进技术的进一步发展形成了一些认识和建议。 展开更多
关键词 激光微推进 工作模式 物态 靶材结构
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Preparation of Al-doped ZnO sputter target by hot pressing 被引量:6
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作者 王星明 白雪 +4 位作者 段华英 石志霞 孙静 卢世刚 黄松涛 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第7期1550-1556,共7页
Al-doped ZnO (AZO) target was prepared by hot pressing using ZnO and Al2O3 powder in mass ratio of 98:2.The effects of hot pressing conditions including temperature,pressure and preserving time on relative density ... Al-doped ZnO (AZO) target was prepared by hot pressing using ZnO and Al2O3 powder in mass ratio of 98:2.The effects of hot pressing conditions including temperature,pressure and preserving time on relative density were investigated.Pore evolution and phase structure change during densification process were studied.The results show that AZO target with super high relative density of 99% was prepared by two-stage hot pressing method under pressure of 35MPa,temperature of 1 050℃ and 1 150℃ with preserving time of 1 h,respectively.At temperature around 1 050℃,the number of isolated pore wasminimum.At temperature lower than 900℃,there existed Al2O3 phase.At temperature higher than 1 000℃,ZnAl2O4 phase was generated and its content was increased with temperature increasing.Hot pressing method had the advantage over pressureless sintering that the content of ZnAl2O4 was lower and sintering temperature could be also lower.With increasing the hot pressing temperature and preserving time,the electric resistivity of AZO target decreased greatly.A low resistivity of 3 10-3 cm was achieved under the temperature of 1 100℃,pressure of 35MPa and preserving time of 10 h. 展开更多
关键词 aluminum-doped ZnO (AZO) sputter target hot pressing PORE phase structure
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电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究 被引量:2
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作者 常正凯 肖金泉 +3 位作者 陈育秋 刘山川 宫骏 孙超 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期547-554,共8页
研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生"跑弧"并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点... 研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生"跑弧"并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点放电的物理机制,探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳、绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性.结果表明,这3种复合结构靶材设计方案均能有效解决电弧离子镀磁性靶材"跑弧"问题.通过实验得到,在低饱和蒸气压金属或绝缘陶瓷靶壳设计方案里,靶材频繁引弧到弧斑能受控运动的转变温度为(136.6±23.0)℃. 展开更多
关键词 电弧离子镀 磁性 有限元方法 磁场分布 复合结构
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