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等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究
被引量:
7
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作者
黄晨光
段祝平
吴承康
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2003年第2期113-119,共7页
采用改进的颗粒沉积模型和一种新建议的循环算法,利用数值方法模拟了等离子体喷涂中涂层的生长过程及涂层的细观结构.数值模拟,主要包括了陶瓷液滴的高速变形与凝固、涂层材料的堆积、涂层中细观空洞的形成与温度场的迭代计算等过程.研...
采用改进的颗粒沉积模型和一种新建议的循环算法,利用数值方法模拟了等离子体喷涂中涂层的生长过程及涂层的细观结构.数值模拟,主要包括了陶瓷液滴的高速变形与凝固、涂层材料的堆积、涂层中细观空洞的形成与温度场的迭代计算等过程.研究结果表明,涂层中孔隙率的分布与一些关键工艺参数和基底表面状态等有关,液态陶瓷颗粒的直径和飞行速度的加大会引起涂层内孔隙率的增加,而基体温度和表面粗糙度的升高则有利于提高涂层的致密度.本文的研究结果将有助于定量或半定量地优化选取工艺参数以便获得所需的涂层结构和改善涂层的力学性能.
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关键词
等离子体喷涂
涂层细观结构
工艺相关性
颗粒沉积模型
数值模拟
陶瓷
温度场
翘曲变形
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职称材料
题名
等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究
被引量:
7
1
作者
黄晨光
段祝平
吴承康
机构
中国科学院力学研究所
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2003年第2期113-119,共7页
基金
国家自然科学基金重大项目(19891180)
中国科学院重点基金资助项目(k-95-1-201).
文摘
采用改进的颗粒沉积模型和一种新建议的循环算法,利用数值方法模拟了等离子体喷涂中涂层的生长过程及涂层的细观结构.数值模拟,主要包括了陶瓷液滴的高速变形与凝固、涂层材料的堆积、涂层中细观空洞的形成与温度场的迭代计算等过程.研究结果表明,涂层中孔隙率的分布与一些关键工艺参数和基底表面状态等有关,液态陶瓷颗粒的直径和飞行速度的加大会引起涂层内孔隙率的增加,而基体温度和表面粗糙度的升高则有利于提高涂层的致密度.本文的研究结果将有助于定量或半定量地优化选取工艺参数以便获得所需的涂层结构和改善涂层的力学性能.
关键词
等离子体喷涂
涂层细观结构
工艺相关性
颗粒沉积模型
数值模拟
陶瓷
温度场
翘曲变形
Keywords
Plasma spray
finite element
porosity growth of coating
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
TQ639.2 [化学工程—精细化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究
黄晨光
段祝平
吴承康
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
2003
7
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职称材料
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