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高重复频率DPL激光对光学薄膜元件损伤实验研究 被引量:1
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作者 代福 熊胜明 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第7期2074-2080,共7页
光学薄膜的高重频激光损伤特性一直是激光薄膜研究者的重点。为了分析光学薄膜在高重频激光辐照下的损伤特性,探究其损伤机理,文中从实验出发,研究了重复频率10kHz DPL激光对光学薄膜元件的损伤特性。结果表明,修正膜层内的驻波场分布,... 光学薄膜的高重频激光损伤特性一直是激光薄膜研究者的重点。为了分析光学薄膜在高重频激光辐照下的损伤特性,探究其损伤机理,文中从实验出发,研究了重复频率10kHz DPL激光对光学薄膜元件的损伤特性。结果表明,修正膜层内的驻波场分布,降低膜层内高折射材料中的驻波场峰值可以提高高重频激光损伤阈值;从激光损伤形貌与辐照激光功率的关系上看,在高重频激光辐照下光学薄膜元件的损伤实质上是热效应和场效应共同作用下产生的"微损伤"累积放大所造成的。当薄膜吸收率较小时,损伤主要表现为场效应所致的"微损伤"累积放大,当薄膜吸收率较大时,损伤主要表现为热效应所致的"微损伤"累积放大。 展开更多
关键词 光学薄膜 重频DPL激光 驻波场修正 损伤机理
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