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激光驻波透镜聚焦原子束制作超微细图形研究
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作者 陈元培 李展 +1 位作者 陈旭南 陈献忠 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期18-19,共2页
介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ... 介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。 展开更多
关键词 原子光学 光刻 原子束 驻波 透镜 激光准直技术 驻波聚焦沉积技术 超微细图形 微细加工
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