循环噪声作用下周期调制双稳系统的驻留时间分布函数

提出了一种计算循环噪声作用下周期调制双稳系统驻留时间分布函数的理论方法。基于具有分段逃逸速率的两态模型理论,建立粒子逃逸的瞬时速率方程,推导得出驻留时间分布函数的递归表达式。基于此,分别计算信号振幅与循环噪声强度比值较大和较小2种不同情形下驻留时间分布函数的解析表达式。并且,从理论和数值模拟两方面分别阐明了循环噪声对驻留时间分布函数结构的影响。研究结果表明:驻留时间分布函数呈现指数衰减且在循环滞后时间处出现骤然下降趋势,且随着噪声强度和相关强度的增大驻留时间分布函数衰减速度变快,说明循环噪声能够加速粒子在势阱间的跃迁。此外,在周期信号的调制下,驻留时间分布函数在信号半周期的奇数倍处出现一系列峰值,这预示着系统发生了随机共振现象。

循环噪声驱动下非对称双稳系统的驻留时间分布函数研究

提出了一种循环噪声驱动下非对称双稳系统驻留时间分布函数的理论计算方法.利用具有分段逃逸速率的两态模型理论,建立分段逃逸速率方程,分段地推导出了驻留时间分布函数的解析表达式.在此基础上,从理论和数值模拟两方面阐明了在非对称性及循环噪声的影响下驻留时间分布函数呈现出反馈结构.研究结果表明:当非对称性、循环噪声的相关强度及循环滞后时间取适当值时均会造成驻留时间分布函数呈现出分段指数衰减现象且在循环滞后时间处出现骤然下降的趋势.随着非对称性的减小,驻留时间分布函数指数衰减的速率加快并出现单调指数衰减现象.分别增大相关强度和循环滞后时间,驻留时间分布函数在循环滞后时间处骤然下降的间距变小.此外,驻留时间分布函数在循环滞后时间处的值会随着噪声强度和相关强度的改变出现极大值,说明系统发生了随机共振现象.

一种新型非球面数控抛光方法的研究

介绍了一种新型的非球面抛光方法———进动抛光,这种方法有着其它方法所不具备的优点———抛光头与非球面很好的接触,因而使仿真结果与实际更接近。对进动抛光原理进行了详细的论述,用数学建模的方法计算了非球面抛光过程中的非球面度、去除函数及驻留函数,通过计算机模拟出了相应的特性曲线。

计算机控制磁流变抛光软件去除算法设计

根据计算机控制磁流变抛光的去除机理,分析了抛光工艺软件的去除算法核心问题即求解驻留时间函数和加工路径设计。采用简森-范锡图特法对驻留时间函数进行迭代求解,同时优化设计工艺软件的加工路径算法,开展工艺软件全过程模块化、流程化设计,完成工艺软件的代码集成测试。最后,通过工艺软件控制磁流变抛光330mm×330mm石英平面反射镜实验,验证去除算法控制抛光过程的有效性及准确性,实验值与理论值吻合良好,从而证实工艺软件去除算法能够准确、有效地指导大口径光学元件的磁流变加工。

非球面透镜加工探讨

本文主要对高次非球面在加工过程中所引起重视的技术问题进行探讨，包括非球面铣、精磨加工中磨轮影响的因素、面形精度补偿及中心厚度的补偿；非球面抛光加工中高、低频误差补偿；非球面磨边定中及定（轴）磨边中定位基准选择等，并进一步作了阐述。