1
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作为高介电常数栅介质材料的LaErO_3薄膜热稳定性和电学性质的研究 |
张九如
殷江
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《南京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
1
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2
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HfO_2高k栅介质等效氧化层厚度的提取 |
陈勇
赵建明
韩德栋
康晋锋
韩汝琦
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《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
3
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3
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超薄HfO_2高K栅介质薄膜的软击穿特性 |
韩德栋
康晋锋
杨红
韩汝琦
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
3
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4
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HfO_2高K栅介质薄膜的电学特性研究 |
韩德栋
康晋锋
刘晓彦
韩汝琦
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
2
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5
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高k栅介质SOI nMOSFET正偏压温度不稳定性的实验研究(英文) |
李哲
吕垠轩
何燕冬
张钢刚
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《北京大学学报(自然科学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2014 |
0 |
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6
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高性能HfAlO介质薄膜的制备(英文) |
程新红
宋朝瑞
俞跃辉
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《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
2
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7
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HfO_2栅介质薄膜的结构和介电性质研究 |
程学瑞
戚泽明
张国斌
李亭亭
贺博
尹民
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《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
1
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8
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堆叠栅介质MOS器件栅极漏电流的计算模型 |
杨红官
朱家俊
喻彪
戴大康
曾云
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《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
1
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9
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新型无碳前体在高k氧化物薄膜化学气相沉积上的应用 |
邵起越
袁涛
李爱东
董岩
方峰
蒋建清
刘治国
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
2
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10
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ZrO_2在Si(100)-2×1表面原子层淀积反应机理的密度泛函理论研究 |
任杰
陈玮
卢红亮
徐敏
张卫
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《化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
0 |
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