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高分散氢氧化镁粉体的制备及其影响因素
被引量:
43
1
作者
吴会军
向兰
+1 位作者
金永成
金涌
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期1181-1185,共5页
以氯化镁为原料,采用氢氧化钠沉淀-水热改性法制备了高分散氢氧化镁粉体,研究了制备过程中的影响沉淀因素.实验结果表明:把温度从40℃提高到90℃、采用往氯化镁溶液中加入氢氧化钠的方式有利于降低溶液过饱和度,制备了平均粒径为0.7μm...
以氯化镁为原料,采用氢氧化钠沉淀-水热改性法制备了高分散氢氧化镁粉体,研究了制备过程中的影响沉淀因素.实验结果表明:把温度从40℃提高到90℃、采用往氯化镁溶液中加入氢氧化钠的方式有利于降低溶液过饱和度,制备了平均粒径为0.7μm的六方片状氢氧化镁粉体,采用场发射扫描电镜法分析了其形貌和粒径;氯化镁过量时溶液pH值较低,有利于氢氧化镁沿径向生长,形成结构稳定、高分散性的片状产物,采用X射线粉末衍射法研究了氢氧化镁粉体的晶体结构.
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关键词
高分散氢氧化镁粉体
制备
影响因素
下载PDF
职称材料
题名
高分散氢氧化镁粉体的制备及其影响因素
被引量:
43
1
作者
吴会军
向兰
金永成
金涌
机构
清华大学化工系
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期1181-1185,共5页
基金
国家自然科学基金(50174032)
清华大学实验室开放基金
文摘
以氯化镁为原料,采用氢氧化钠沉淀-水热改性法制备了高分散氢氧化镁粉体,研究了制备过程中的影响沉淀因素.实验结果表明:把温度从40℃提高到90℃、采用往氯化镁溶液中加入氢氧化钠的方式有利于降低溶液过饱和度,制备了平均粒径为0.7μm的六方片状氢氧化镁粉体,采用场发射扫描电镜法分析了其形貌和粒径;氯化镁过量时溶液pH值较低,有利于氢氧化镁沿径向生长,形成结构稳定、高分散性的片状产物,采用X射线粉末衍射法研究了氢氧化镁粉体的晶体结构.
关键词
高分散氢氧化镁粉体
制备
影响因素
Keywords
highly-dispersed Mg(OH)(2) powders
preparation
influence factors
分类号
TF12 [冶金工程—粉末冶金]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高分散氢氧化镁粉体的制备及其影响因素
吴会军
向兰
金永成
金涌
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
43
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职称材料
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