高压光箔中微量元素偏析与分布机理研究

采用密度泛函理论计算和辉光放电光谱(GD-OES)测试系统研究了高压铝电解电容器用光箔中微量Pb和Cu的偏析行为以及在铝箔表面的分布情况。结果表明,由于Pb元素的共价半径大和表面能低,导致Pb具有很强的偏析能力,而Cu的偏析能力相对较弱。Pb和Cu主要富集在铝箔表面50~60 nm附近,富集位置取决于杂质原子半径,而与偏析能无关。另外,由于邻位Pb原子更容易使表面结构驰豫,铝箔内部Pb倾向于维持粒子形态,而Cu没有表现出很明显的聚集倾向,在原子形态和粒子形态之间保持一种平衡。因此高压光箔中Pb和Cu表现出不同的固溶状态。

成品退火工艺对高压光箔立方织构的影响

通过选择不同的退火工艺方案,采用织构定量方法,用西门子D5000型X射线仪进行检测,用正态分布函数拟合计算法计算退火箔立方织构的占有率,研究了成品退火工艺对高压光箔立方织构占有率的影响。