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采用MCVD工艺研制高双折射单模偏振保持光纤
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作者 王忠晶 《光通信技术》 CSCD 1990年第2期76-83,共8页
在相干光通信系统和大量传感技术应用中,最引人注目的是偏振保持光纤。本文采用MCVD法研究出了一种新的制造工艺,不采用含氟气侵蚀法获得了一种结构介于Bow-tie型与椭圆应力型(Flat-cladding)的新型高双折射保偏光纤。测试结果,在工作... 在相干光通信系统和大量传感技术应用中,最引人注目的是偏振保持光纤。本文采用MCVD法研究出了一种新的制造工艺,不采用含氟气侵蚀法获得了一种结构介于Bow-tie型与椭圆应力型(Flat-cladding)的新型高双折射保偏光纤。测试结果,在工作波长λ=0.6328μm处,拍长L_6≈1.0mm,消光比η=-20.04dB。本文还对所研制出的光纤抗弯曲保偏性能进行了测试,结果良好。 展开更多
关键词 高双折射保偏光纤 拍长 消光比 抗弯曲
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